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公开(公告)号：CN104968695B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201480007846.6
申请日：2014-02-04
Applicant: 星光PMC株式会社 , 日信化学工业株式会社
IPC: C08F257/02 , B41J2/01 , B41M1/10 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D151/06
CPC classification number: C08F257/02 , B41M5/52 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , C08F2/28 , C08F265/04 , C09D11/023 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D151/003 , C08F214/06
Abstract: 本发明提供具有聚合物核壳结构的阳离子性乳液，其在水性墨中使用的情况下发挥优异的基材密合性、耐水性、耐湿性、耐醇性、高光泽性，在记录介质中使用的情况下发挥优异的发色性、耐水性，即，具有聚合物核壳结构的阳离子性乳液，其包含下述(A)成分和(B)成分，质量比(A)成分：(B)成分＝25：75～75：25。(A)将具有氯乙烯单体作为构成成分的单体聚合而得到的乳液的聚合物核成分。(B)乳液的聚合物壳成分，其具有将具有苯乙烯类和式(1)的化合物、或者、苯乙烯类和式(1)的化合物和作为化合物(2)的酯部位的碳原子数为1～22的(甲基)丙烯酸酯作为构成成分的单体混合物聚合而得到的结构，式(1)的化合物在上述单体混合物中为20～45质量％。
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公开(公告)号：CN104968695A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007846.6
申请日：2014-02-04
Applicant: 星光PMC株式会社 , 日信化学工业株式会社
IPC: C08F257/02 , B41J2/01 , B41M1/10 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D151/06
CPC classification number: C08F257/02 , B41M5/52 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , C08F2/28 , C08F265/04 , C09D11/023 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D151/003 , C08F214/06
Abstract: 本发明提供具有聚合物核壳结构的阳离子性乳液，其在水性墨中使用的情况下发挥优异的基材密合性、耐水性、耐湿性、耐醇性、高光泽性，在记录介质中使用的情况下发挥优异的发色性、耐水性，即，具有聚合物核壳结构的阳离子性乳液，其包含下述(A)成分和(B)成分，质量比(A)成分：(B)成分＝25：75～75：25。(A)将具有氯乙烯单体作为构成成分的单体聚合而得到的乳液的聚合物核成分。(B)乳液的聚合物壳成分，其具有将具有苯乙烯类和式(1)的化合物、或者、苯乙烯类和式(1)的化合物和作为化合物(2)的酯部位的碳原子数为1～22的(甲基)丙烯酸酯作为构成成分的单体混合物聚合而得到的结构，式(1)的化合物在上述单体混合物中为20～45质量％。
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公开(公告)号：CN100515792C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480043152.4
申请日：2004-12-21
Applicant: 星光PMC株式会社
Inventor： 那须健司
IPC: B41M5/28 , B41M5/30 , C09D129/14 , C09D171/03 , C09D177/06 , C09D123/02 , C09D5/00
CPC classification number: B41M7/0027 , B41M2205/04 , B41M2205/40 , C08L29/04 , C08L77/00 , C08L79/02 , C08L2205/03 , C09D5/00 , C09D129/04 , C09D177/00 , C09D179/02 , C08L2666/02 , C08L2666/08 , C08L2666/20 , C08L2666/14
Abstract: 本发明提供一种记录层保护涂布剂，其特征在于，其中含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)，优选提供一种记录层保护涂布剂，其特征是，羧基改性聚乙烯基醇(A)的皂化度为90～99.5摩尔%，优选其特征是赋予记录介质优良耐水性，提供一种具有高耐水性的记录介质，其特征是把该记录层保护涂布剂在记录层上涂布而形成。
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公开(公告)号：CN1956851A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200480043152.4
申请日：2004-12-21
Applicant: 星光PMC株式会社
Inventor： 那须健司
IPC: B41M5/28 , B41M5/30 , C09D129/14 , C09D171/03 , C09D177/06 , C09D123/02 , C09D5/00
CPC classification number: B41M7/0027 , B41M2205/04 , B41M2205/40 , C08L29/04 , C08L77/00 , C08L79/02 , C08L2205/03 , C09D5/00 , C09D129/04 , C09D177/00 , C09D179/02 , C08L2666/02 , C08L2666/08 , C08L2666/20 , C08L2666/14
Abstract: 本发明提供一种记录层保护涂布剂，其特征在于，其中含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)，优选提供一种记录层保护涂布剂，其特征是，羧基改性聚乙烯基醇(A)的皂化度为90～99.5摩尔％，优选其特征是赋予记录介质优良耐水性，提供一种具有高耐水性的记录介质，其特征是把该记录层保护涂布剂在记录层上涂布而形成。
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