一种钽涂层的表面活化方法

    公开(公告)号:CN114622189A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202210263417.1

    申请日:2022-03-17

    Abstract: 本发明提供了一种钽涂层的表面活化方法,属于表面活化技术领域。采用氩气等离子对钽涂层进行等离子体活化处理后浸泡在水中。本发明提出一种等离子体表面活化法处理钽涂层的方法,利用氩离子轰击钽涂层表面,清除钽涂层表面杂质,提高钽涂层表面活性,且不引入杂质元素及化学反应,经等离子体活化处理后的钽涂层空位缺陷增加,可促进Ta2O5氧化膜生成,提高涂层的耐蚀性能,适用于提高化工领域小型部件表面钽涂层的耐蚀性能;且等离子体活化处理效率高,可控性强;同时在水中浸泡能够增加氧化膜的耐污性能,进一步提高耐蚀性能。

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