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公开(公告)号:CN110835701A
公开(公告)日:2020-02-25
申请号:CN201911060627.5
申请日:2019-11-01
Applicant: 昆明理工大学
Abstract: 本发明公开一种利用硅废料制备铝硅合金的方法,检测硅废料的组成成分,将废料研磨破碎处理,得到块状或片状硅废料;按铝硅摩尔比为0.85-0.65:0.15-0.35的比例,在废料中添加铝粒,混合均匀后添加至石墨坩埚容器中,置于电磁感应炉底座中,在高纯氩气的保护氛围下,对混合料进行加热并保温,冷却后取出石墨坩埚,敲碎石墨坩埚后得到铸造铝硅合金样品;相比于目前研究回收硅废料中的硅的方法,本发明利用硅废料制取铸造铝硅合金的流程简单快捷,节能环保,对废料中硅的资源再利用率高,同时镍、铁等金属杂质含量低于2.2%,满足工业用铝硅合金杂质含量要求。
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公开(公告)号:CN106119951A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610705887.3
申请日:2016-08-23
Applicant: 昆明理工大学
Abstract: 本发明涉及几种低温高速生长SiC单晶的助溶剂,属于晶体生长技术领域。本发明涉及的几种助溶剂为稀土金属镨(Pr)、铈(Ce)、镧(La)、镝(Dy)和铽(Tb),SiC单晶的生长方法为顶部籽晶溶液生长法。首先,将上述任意一种助溶剂与高纯硅(≥99.9999%)一起加热熔融,然后,将装有SiC籽晶的籽晶杆伸入到熔体液面下0.5~5cm处,旋转籽晶杆或者熔融容器进行SiC单晶的生长;晶体生长结束后将籽晶杆从熔体中移出;最后,用HNO3+HF的混酸去除SiC单晶表面的残留物得到高纯SiC单晶。
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公开(公告)号:CN106119951B
公开(公告)日:2019-04-12
申请号:CN201610705887.3
申请日:2016-08-23
Applicant: 昆明理工大学
Abstract: 本发明涉及几种低温高速生长SiC单晶的助溶剂,属于晶体生长技术领域。本发明涉及的几种助溶剂为稀土金属镨(Pr)、铈(Ce)、镧(La)、镝(Dy)和铽(Tb),SiC单晶的生长方法为顶部籽晶溶液生长法。首先,将上述任意一种助溶剂与高纯硅(≥99.9999%)一起加热熔融,然后,将装有SiC籽晶的籽晶杆伸入到熔体液面下0.5~5cm处,旋转籽晶杆或者熔融容器进行SiC单晶的生长;晶体生长结束后将籽晶杆从熔体中移出;最后,用HNO3+HF的混酸去除SiC单晶表面的残留物得到高纯SiC单晶。
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