公开(公告)号：CN100418914C

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200480003081.5

申请日：2004-01-30

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  三之星机带株式会社

Inventor： 木村幸雄 ,  筒井义也 ,  后藤和生

IPC: C03C17/34

CPC classification number: C03C17/3417 ,  C03C1/008 ,  C03C17/007 ,  C03C17/008 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/479

Abstract: 以高生产率提供对60°入射角的光反射降低效果也非常好的低反射玻璃板。低反射玻璃板的制造方法的特征是，使用处理液(1)和处理液(2)，将上述处理液(1)涂布在透明玻璃基板的表面后，在50℃～250℃下干燥除去有机溶剂，接着在其上涂布处理液(2)，在50℃～250℃下干燥除去有机溶剂，然后将经过上述处理的透明玻璃基板在400～800℃进行焙烧。上述处理液(1)含有树脂B1，金微粒，选自铁、钛及锆中的至少一种金属(M1)的有机金属化合物及有机溶剂。上述处理液(2)含有成膜用化合物、热分解温度和树脂B1相同或者高于树脂B1的树脂B2及有机溶剂。

公开(公告)号：CN1745044A

公开(公告)日：2006-03-08

申请号：CN200480003081.5

申请日：2004-01-30

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  三之星机带株式会社

Inventor： 木村幸雄 ,  筒井义也 ,  后藤和生

IPC: C03C17/34

CPC classification number: C03C17/3417 ,  C03C1/008 ,  C03C17/007 ,  C03C17/008 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/479

Abstract: 以高生产率提供对60°入射角的光反射降低效果也非常好的低反射玻璃板。低反射玻璃板的制造方法的特征是，使用处理液(1)和处理液(2)，将上述处理液(1)涂布在透明玻璃基板的表面后，在50℃～250℃下干燥除去有机溶剂，接着在其上涂布处理液(2)，在50℃～250℃下干燥除去有机溶剂，然后将经过上述处理的透明玻璃基板在400～800℃进行焙烧。上述处理液(1)含有树脂B1，金微粒，选自铁、钛及锆中的至少一种金属(M1)的有机金属化合物及有机溶剂。上述处理液(2)含有成膜用化合物、热分解温度和树脂B1相同或者高于树脂B1的树脂B2及有机溶剂。