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公开(公告)号:CN101080785B
公开(公告)日:2010-05-12
申请号:CN200580043593.9
申请日:2005-12-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C23/0025 , C03C2217/215 , C03C2217/23 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , H01B1/08 , H01J17/04 , H01J29/02 , H01J2217/49207 , H01L51/0023 , H01L2251/308
Abstract: 本发明提供生产性高且适合于激光图案形成的带透明导电膜的基板。作为在玻璃基板上形成以氧化铟为主要成分的透明导电膜而成的带透明导电膜的基板、特征在于该透明导电膜表面的平均畴直径在150nm以下的带透明导电膜的基板,以及前述透明导电膜为非晶质的前述带透明导电膜的基板。前述透明导电膜通过溅射法以250℃以下的成膜时的基板温度形成的前述带透明导电膜的基板。
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公开(公告)号:CN101080785A
公开(公告)日:2007-11-28
申请号:CN200580043593.9
申请日:2005-12-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C23/0025 , C03C2217/215 , C03C2217/23 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , H01B1/08 , H01J17/04 , H01J29/02 , H01J2217/49207 , H01L51/0023 , H01L2251/308
Abstract: 本发明提供生产性高且适合于激光图案形成的带透明导电膜的基板。作为在玻璃基板上形成以氧化铟为主要成分的透明导电膜而成的带透明导电膜的基板、特征在于该透明导电膜表面的平均畴直径在150nm以下的带透明导电膜的基板,以及前述透明导电膜为非晶质的前述带透明导电膜的基板。前述透明导电膜通过溅射法以200℃以下的成膜时的基板温度形成的前述带透明导电膜的基板。
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