制造磁盘用玻璃衬底的方法

    公开(公告)号:CN101678528A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200980000070.4

    申请日:2009-01-21

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/042 B24B37/24 B24D3/32 C03C19/00

    Abstract: 在磁盘用玻璃衬底的制造中,本发明提供一种制造磁盘用玻璃衬底的方法,所述方法包括:在供应含磨料的研磨液的同时,使用由泡沫树脂制成的研磨垫对圆形玻璃衬底的主表面进行研磨的步骤,其中使用国际橡胶硬度为45 IRHD以下的由泡沫树脂制成的研磨垫作为起始研磨垫,所述硬度通过JIS K6253中规定的M法在研磨垫与浆体接触之前的干燥状态下测得,以及在对所述起始研磨垫的研磨表面进行修整处理以调节所述垫,使得开孔面积比为8%以上且开孔的平均圆等效直径为10μm以上之后开始所述研磨,由此抑制下垂在对圆形玻璃板主表面进行研磨的步骤中的增大。

    制造磁盘用玻璃衬底的方法

    公开(公告)号:CN101678528B

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN200980000070.4

    申请日:2009-01-21

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/042 B24B37/24 B24D3/32 C03C19/00

    Abstract: 在磁盘用玻璃衬底的制造中,本发明提供一种制造磁盘用玻璃衬底的方法,所述方法包括:在供应含磨料的研磨液的同时,使用由泡沫树脂制成的研磨垫对圆形玻璃衬底的主表面进行研磨的步骤,其中使用国际橡胶硬度为45IRHD以下的由泡沫树脂制成的研磨垫作为起始研磨垫,所述硬度通过JIS K6253中规定的M法在研磨垫与浆体接触之前的干燥状态下测得,以及在对所述起始研磨垫的研磨表面进行修整处理以调节所述垫,使得开孔面积比为8%以上且开孔的平均圆等效直径为10μm以上之后开始所述研磨,由此抑制下垂在对圆形玻璃板主表面进行研磨的步骤中的增大。

    磁盘用玻璃基板的制造方法

    公开(公告)号:CN101588895B

    公开(公告)日:2011-10-26

    申请号:CN200880001536.8

    申请日:2008-08-18

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/044 C03C15/02 C09K3/1463

    Abstract: 在制造磁盘用玻璃基板时,圆形玻璃板的主表面的研磨工序中,在不降低研磨速率的情况下,减少塌边。包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序,所述研磨液包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅,或者所述研磨液中,相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅,包含0.02~0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂。

    磁盘用玻璃基板的制造方法

    公开(公告)号:CN101588895A

    公开(公告)日:2009-11-25

    申请号:CN200880001536.8

    申请日:2008-08-18

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/044 C03C15/02 C09K3/1463

    Abstract: 在制造磁盘用玻璃基板时,圆形玻璃板的主表面的研磨工序中,在不降低研磨速率的情况下,减少塌边。包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序,所述研磨液包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅,或者所述研磨液中,相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅,包含0.02~0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂。

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