甲烷制备系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113557219B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202080017121.0

    申请日:2020-02-17

    Abstract: 本发明提供一种甲烷制备系统,其具备:被供给CO和/或CO2,使CO和/或CO2与氢反应,从而生成甲烷与水的反应釜;在所述CO和/或CO2的供给方向上位于所述反应釜的上游侧,使包含CO和/或CO2及水溶性杂质的原料气体与水接触,从而从所述原料气体中去除所述水溶性杂质的洗涤罐;将去除了所述水溶性杂质的原料气体从所述洗涤罐供给至所述反应釜的第一供给管线;及将所述反应釜中生成的水从所述反应釜供给至所述洗涤罐以使所述水在所述洗涤罐中与所述原料气体接触的第二供给管线。

    甲烷气产生装置以及甲烷气产生方法

    公开(公告)号:CN112672987A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN201980059158.7

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 本发明是一种通过甲烷化反应来产生甲烷气的甲烷气产生装置,且包括:反应部,使含有二氧化碳及氢的反应物发生放热反应,产生含有甲烷气及水蒸气且温度高于反应物的产物;以及热交换器,通过使被输送至反应部的反应物与从所述反应部流出的产物进行热交换,对被输送至所述反应部的反应物进行预热,且对从所述反应部流出的产物进行冷却。

    甲烷制备系统
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113557219A

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202080017121.0

    申请日:2020-02-17

    Abstract: 本发明提供一种甲烷制备系统,其具备:被供给CO和/或CO2,使CO和/或CO2与氢反应,从而生成甲烷与水的反应釜;在所述CO和/或CO2的供给方向上位于所述反应釜的上游侧,使包含CO和/或CO2及水溶性杂质的原料气体与水接触,从而从所述原料气体中去除所述水溶性杂质的洗涤罐;将去除了所述水溶性杂质的原料气体从所述洗涤罐供给至所述反应釜的第一供给管线;及将所述反应釜中生成的水从所述反应釜供给至所述洗涤罐以使所述水在所述洗涤罐中与所述原料气体接触的第二供给管线。

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