公开(公告)号：CN1219155C

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN02119234.0

申请日：2002-03-19

Applicant: 日立空调系统株式会社 ,  大丰工业株式会社

Inventor： 今村浩幸 ,  樱井和夫 ,  田中庆治 ,  大石康郎 ,  深津清 ,  林元司 ,  中村真也 ,  竹中章

IPC: F04C18/02

CPC classification number: F01C17/066

Abstract: 本发明公开了一种改进的涡卷压缩机，包括一固定涡卷和一公转涡卷，及一能使公转涡卷产生公转运动的十字联轴节。十字联轴节的欧氏环被制成使其对应部件在其上滑动的滑动表面由一种包含有硅颗粒的基体材料制成，而(在作为对应部件在其上滑动的滑动表面的基体材料的表面上的)每一硅颗粒的表面被制成为平表面。实施时，制成为平表面的硅部分与十字联轴节的整个滑动面积的比率在3%至20%的范围内，最好是5%至15%。采用本发明的涡卷结构可以提高涡卷压缩机内的十字联轴节的欧氏环及其对应部件的抗磨损性能。

公开(公告)号：CN1376864A

公开(公告)日：2002-10-30

申请号：CN02119234.0

申请日：2002-03-19

Applicant: 日立空调系统株式会社 ,  大丰工业株式会社

Inventor： 今村浩幸 ,  樱井和夫 ,  田中庆治 ,  大石康郎 ,  深津清 ,  林元司 ,  中村真也 ,  竹中章

IPC: F04C18/02

CPC classification number: F01C17/066

Abstract: 本发明公开了一种改进的涡卷压缩机,包括一固定涡卷和一公转涡卷,及一能使公转涡卷产生公转运动的十字联轴节。十字联轴节的欧氏环被制成使其对应部件在其上滑动的滑动表面由一种包含有硅颗粒的基体材料制成,而(在作为对应部件在其上滑动的滑动表面的基体材料的表面上的)每一硅颗粒的表面被制成为平表面。实施时,制成为平表面的硅部分与十字联轴节的整个滑动面积的比率在3%至20%的范围内,最好是5%至15%。采用本发明的涡卷结构可以提高涡卷压缩机内的十字联轴节的欧氏环及其对应部件的抗磨损性能。