公开(公告)号：CN85104942B

公开(公告)日：1987-09-02

申请号：CN85104942

申请日：1985-06-27

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 西田达也 ,  藤井义胜 ,  藤田淳 ,  村越猛 ,  山田和夫

IPC: C01B31/04

Abstract: 本发明提供一种石墨层间化合物的制造方法，将石墨放在液态氧化介质中浸渍处理，形成石墨层间化合物后，回收该氧化介质，在回收的酸中再添加新的液态氧化介质，用以新石墨的浸渍处理。本发明的优点是，针对已有技术中存在粘度高，操作性差，改善浸渍处理的操作性，而且浸渍处理后的液态氧化介质不必废弃处理，无需大量的中和剂。这种石墨层间化合物用作密封垫片，衬板等。

公开(公告)号：CN85104942A

公开(公告)日：1986-12-31

申请号：CN85104942

申请日：1985-06-27

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 西田逹也 ,  藤井义胜 ,  藤田淳 ,  村越猛 ,  山田和夫

IPC: C01B31/04

Abstract: 本发明提供一种石墨层间化合物的制造方法，将石墨放在液态氧化介质中浸渍处理，形成石墨层间化合物后，回收该氧化介质，在回收的酸中再添加新的液态氧化介质，用以新石墨的浸渍处理。本发明的优点是，针对已有技术中存在粘度高，操作性差，改善浸渍处理的操作性，而且浸渍处理后的液态氧化介质不必废弃处理，无需大量的中和剂。这种石墨层间化合物用作密封垫片，衬板等。