电介质基材表面的金属化方法以及附有金属膜的电介质基材

    公开(公告)号:CN106460175B

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201580010759.0

    申请日:2015-02-24

    Abstract: 本发明的电介质基材表面的金属化方法,对电介质基材表面进行使用稀有气体的大气压等离子体处理,生成过氧化物自由基,使接枝剂与其反应,将与银离子以配位键相结合的官能团固定,涂布含有式(1)的银化合物(A)10~50质量%和式(2)的胺化合物(B)50~90质量%的含银组合物,进行加热、固化形成银薄膜层,通过这样的方法,在虽然没有信号传播速度的延迟或消耗电量的增加而适宜作为电介质基材但密合性极低的氟树脂的表面,也能够形成具有高密合性的金属膜。(R1:氢、-(CY2)a-CH3或-((CH2)b-O-CHZ)c-CH3、R2:-(CY2)d-CH3或-((CH2)e-O-CHZ)f-CH3。Y:氢原子或-(CH2)g-CH3、Z:氢原子或-(CH2)h-CH3。a:0~8的整数、b:1~4的整数、c:1~3的整数、d:1~8的整数、e:1~4的整数、f:1~3的整数、g:1~3的整数、h:1~2的整数。)

    防反射膜
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101770041A

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200910215611.7

    申请日:2009-12-22

    Abstract: 一种防反射膜,通过在透明基材膜的表面层叠作为单层结构防反射层的低折射率层而构成。并且,低折射率层的折射率设定为1.20~1.50。低折射率层是通过使含有平均粒子径为10~100nm的中空硅石微粒子和聚合性粘合剂的低折射率层涂敷液固化而形成的。另外,低折射率层的厚度以kλ/4为佳,λ为光波长400~650nm,k为1或3。

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