涂膜形成方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101797551A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN201010113658.5

    申请日:2010-02-05

    Abstract: 本发明提供涂膜形成方法,其不会发生长期耐久性和耐候性等性质的降低,能够谋求涂膜固化时间的缩短,谋求涂布设备的缩小化和CO2减少。上述涂膜形成方法具有如下工序:(1)在被涂物上涂布底涂涂料;(2)在底涂层上涂布顶涂涂料;(3)在未固化涂膜上进行能量线照射;和(4)烘烤固化,其中,上述顶涂涂料含有:含羟基树脂(A)、具有不饱和键的活性能量线固化性化合物(B)和多异氰酸酯化合物(C),上述含羟基树脂(A)的玻璃化转变温度(Tg)为-20~50℃,重均分子量为10000~30000,羟值为80~230(KOHmg/g),以羟值基准计伯羟基/仲羟基=30/70~80/20,上述多异氰酸酯化合物(C)的每一个分子的平均异氰酸酯基数为2.5~3.4,多异氰酸酯化合物(C)的异氰酸酯基与含羟基树脂(A)的羟基的当量比(NCO/OH)为1.2~3.0,以重量比计((A)+(C))/(B)=90/10~50/50。

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