分子筛复合膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1331657A

    公开(公告)日:2002-01-16

    申请号:CN99814350.2

    申请日:1999-10-08

    CPC classification number: C01B39/02 B01D67/0083 B01D69/10 B01D71/028

    Abstract: 一种由具有与欲在其上形成分子筛膜相同或相似的组成且含有与被涂敷的分子筛含有的相同模板剂的分子筛所制成的多孔基质。将该被涂敷的基质焙烧以同时除去该分子筛涂层和该多孔基质中的模板剂。由此形成由该多孔基质和在其上形成的分子筛膜组成的分子筛复合膜。由于该分子筛膜已被调整,以表现出与该多孔基质几乎相同的热膨胀行为,因此该分子筛膜不产生裂缝。

    DDR型沸石膜的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101400605A

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200780008881.X

    申请日:2007-02-15

    Abstract: 一种DDR型沸石膜的制造方法,其为将多孔基体浸渍于包含了1-金刚烷胺、二氧化硅和水的原料溶液中,在存在DDR型沸石晶种(晶种)的情况下,水热合成DDR型沸石,由此在多孔基材表面形成DDR型沸石膜的方法,其中,1-金刚烷胺和二氧化硅的含有比例(1-金刚烷胺/二氧化硅)为0.002至0.4摩尔比,而水和二氧化硅的含有比例(水/二氧化硅)为10至500摩尔比,晶种的平均粒径为300nm以下。本发明提供了一种DDR型沸石膜的制造方法,其能够稳定地制造膜厚均匀、薄且气体透过量高的DDR型沸石膜。

    DDR型沸石膜的制造方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101400605B

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN200780008881.X

    申请日:2007-02-15

    Abstract: 一种DDR型沸石膜的制造方法,其为将多孔基体浸渍于包含了1-金刚烷胺、二氧化硅和水的原料溶液中,在存在DDR型沸石晶种(晶种)的情况下,水热合成DDR型沸石,由此在多孔基材表面形成DDR型沸石膜的方法,其中,1-金刚烷胺和二氧化硅的含有比例(1-金刚烷胺/二氧化硅)为0.002至0.4摩尔比,而水和二氧化硅的含有比例(水/二氧化硅)为10至500摩尔比,晶种的平均粒径为300nm以下。本发明提供了一种DDR型沸石膜的制造方法,其能够稳定地制造膜厚均匀、薄且气体透过量高的DDR型沸石膜。

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