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公开(公告)号:CN1324772C
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN03107531.2
申请日:2003-03-26
Applicant: 日本电信电话株式会社
CPC classification number: H01L33/08 , H01L27/153 , H01L33/32
Abstract: 本发明的一种半导体发光器件至少包括:一层形成在衬底上的覆层,一个在第一覆层上形成的,并包括由In1-X-YGaXAlYN(0≤X,Y≤1,0≤X+Y<1)材料制成的激活层的光发射结构,和一层在光发射结构上形成的第二覆层。激活层是由一种具有小俄歇效应,并在环境温度下,对其带隙有较少依赖性的InN材料制成的。
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公开(公告)号:CN1490644A
公开(公告)日:2004-04-21
申请号:CN03158879.4
申请日:2003-09-16
Applicant: 日本电信电话株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , G02F1/01725 , G02F2001/01766 , G02F2202/101 , H01S5/0265
Abstract: 在本发明的半导体光调制器中,用作光吸收层的量子阱结构的每个量子阱层和每个势垒层分别由In1-X-YGaXAlYN(0≤X,Y≤1,0≤X+Y≤1)和In1-X′-Y′GaX′AlY′N(0≤X′,Y′≤1,0≤X′+Y′≤1)构成。通过自发极化,在光吸收层中产生电场。
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公开(公告)号:CN1288764C
公开(公告)日:2006-12-06
申请号:CN03158879.4
申请日:2003-09-16
Applicant: 日本电信电话株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , G02F1/01725 , G02F2001/01766 , G02F2202/101 , H01S5/0265
Abstract: 在本发明的半导体光调制器中,用作光吸收层的量子阱结构的每个量子阱层和每个势垒层分别由In1-X-YGaXAlYN(0≤X,Y≤1,0≤X+Y≤1)和In1-X′-Y′GaX′AlY′N(0≤X′,Y′≤1,0≤X′+Y′≤1)构成。通过自发极化,在光吸收层中产生电场。
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公开(公告)号:CN1467888A
公开(公告)日:2004-01-14
申请号:CN03107531.2
申请日:2003-03-26
Applicant: 日本电信电话株式会社
CPC classification number: H01L33/08 , H01L27/153 , H01L33/32
Abstract: 本发明的一种半导体发光器件至少包括:一层形成在衬底上的覆层,一个在第一覆层上形成的,并包括由In1-X-YGaXAlYN(0≤X,Y≤1,0≤X+Y<1)材料制成的激活层的光发射结构,和一层在光发射结构上形成的第二覆层。激活层是由一种具有小俄歇效应,并在环境温度下,对其带隙有较少依赖性的InN材料制成的。
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