光接收装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN112236871A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201980037600.6

    申请日:2019-05-20

    Abstract: 本发明包括形成在第一衬底(101)的主表面(101a)上的半导体光放大器(102)。半导体光放大器(102)的一端的端面形成第一反射部(103),所述一端的端面被形成为相对于第一衬底(101)的主表面(101a)倾斜。半导体光放大器(102)的另一端的端面形成第二反射部(104),所述另一端的端面被形成为相对于第一衬底(101)的主表面(101a)倾斜。该光接收装置还包括:第二衬底(105),其背面(105b)结合到第一衬底(101)的背面(101b);以及光电二极管(106),形成在第二衬底(105)的主表面(105a)上。

    半导体受光元件
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113678266B

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202080027577.5

    申请日:2020-04-07

    Abstract: 本发明提供一种增加制造工艺的裕度,能不牺牲受光灵敏度而实现高速工作的半导体受光元件。本发明的半导体受光元件(200)具备:掺杂有第一杂质的半导体层(202);半导体光吸收层(203),在掺杂有所述第一杂质的半导体层(202)上,以吸收入射光的方式对带隙能量进行调整;掺杂有第二杂质的半导体层(204),在所述半导体光吸收层(203)上;以及金属电极(206),与掺杂有所述第二杂质的半导体层(204)的侧面相接,所述半导体受光元件(200)的特征在于,所述金属电极(206)的侧面是与掺杂有所述第二杂质的半导体层(204)的生长方向平行的面。

    半导体受光元件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113678266A

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202080027577.5

    申请日:2020-04-07

    Abstract: 本发明提供一种增加制造工艺的裕度,能不牺牲受光灵敏度而实现高速工作的半导体受光元件。本发明的半导体受光元件(200)具备:掺杂有第一杂质的半导体层(202);半导体光吸收层(203),在掺杂有所述第一杂质的半导体层(202)上,以吸收入射光的方式对带隙能量进行调整;掺杂有第二杂质的半导体层(204),在所述半导体光吸收层(203)上;以及金属电极(206),与掺杂有所述第二杂质的半导体的侧面相接,所述半导体受光元件(200)的特征在于,所述金属电极(206)的侧面是与掺杂有所述第二杂质的半导体层(204)的生长方向平行的面。

    雪崩光电二极管
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114762131A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN201980102322.8

    申请日:2019-11-18

    Abstract: 提供一种具有高可靠性和低噪声性,同时能在高增益状态下动作的雪崩光电二极管的元件结构。雪崩光电二极管(100)是一种在第一与第二半导体接触层之间至少具有倍增层(105)和光吸收层(103),第一半导体接触层(108)的面积至少小于倍增层(105)的面积的雪崩光电二极管,其设为在第一半导体接触层(108)与倍增层(105)之间,具有在动作电压下耗尽层化的电场弛豫层(107)。

    光接收装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN112236871B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN201980037600.6

    申请日:2019-05-20

    Abstract: 本发明包括形成在第一衬底(101)的主表面(101a)上的半导体光放大器(102)。半导体光放大器(102)的一端的端面形成第一反射部(103),所述一端的端面被形成为相对于第一衬底(101)的主表面(101a)倾斜。半导体光放大器(102)的另一端的端面形成第二反射部(104),所述另一端的端面被形成为相对于第一衬底(101)的主表面(101a)倾斜。该光接收装置还包括:第二衬底(105),其背面(105b)结合到第一衬底(101)的背面(101b);以及光电二极管(106),形成在第二衬底(105)的主表面(105a)上。

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