公开(公告)号：CN112513682A

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201980050301.6

申请日：2019-07-29

Applicant: 日本电产株式会社 ,  日本电产三协株式会社

Inventor： 中川小百合 ,  加本贵则 ,  中山隆司 ,  山本明典 ,  塩原秀 ,  J·T·达玛斯科提 ,  渡邉友启

IPC: G02B1/18 ,  B32B7/023 ,  B32B27/00 ,  B32B27/30 ,  G02B1/14

Abstract: 提供一种能提高光学元件的耐候性的涂敷方法。涂敷方法包含：在包括透镜(11)的透光性构件(10)的表面进行前处理的工序；以及在所述前处理之后在透光性构件(10)的表面(10a)形成防水膜(20)的工序。透光性构件(10)的最外层含有氧化硅。通过前处理，与透光性构件(10)的表面(10a)结合的羟基的数量增加。防水膜(20)含有含氟有机硅化合物。前处理后的透光性构件(10)的表面能的极性成分为35mJ/mm2以上且55mJ/mm2以下。