树脂膜的制造方法、以及相位差膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN113454501B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202080014739.1

    申请日:2020-02-17

    Inventor: 村上俊秀

    Abstract: 本发明涉及一种树脂膜的制造方法,在树脂膜的制造方法中,适当地控制升温工序中的拉伸膜的升温,所述树脂膜的制造方法包括以下工序:准备工序,准备原料膜;拉伸工序,将原料膜以规定的表面拉伸倍率进行拉伸而得到拉伸膜;升温工序,将拉伸膜的温度升高;以及热固定工序,将拉伸膜的温度保持在规定范围。

    栅格起偏镜及其制法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101228463B

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200680026794.2

    申请日:2006-07-24

    Abstract: 本发明涉及一种栅格起偏镜,其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层;第2层,其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层,这些A层和B层被交替并列配置,所述A层包含复折射率(N=n-iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料,所述B层包含气体;第3层,其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。

    树脂膜、隔离膜及导电性膜以及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN109715711A

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201780056721.6

    申请日:2017-09-25

    Inventor: 村上俊秀

    Abstract: 本发明提供一种树脂膜,由包含聚合物的树脂形成,上述聚合物含有脂环式结构且具有结晶性,上述聚合物的晶化度为30%以上,并且,上述树脂膜的由式(1)表示的厚度不均Tv为5%以下。其中,上述式(1)为Tv[%]=[(Tmax-Tmin)/Tave]×100,该式(1)中,Tmax为上述树脂膜的厚度的最大值,Tmin为上述树脂膜的厚度的最小值,并且Tave为上述树脂膜的厚度的平均值。

    相位差膜及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108139529A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680058906.6

    申请日:2016-10-13

    Inventor: 村上俊秀

    Abstract: 本发明涉及相位差膜及其制造方法,上述相位差膜由包含具有结晶性的聚合物的树脂形成,NZ系数小于1,上述制造方法包含以下工序:贴合工序,其为在第1膜的一面或两面贴合第2膜而得到第3膜的工序,上述第1膜由包含具有结晶性的聚合物、玻璃化转变温度为Tg(℃)、熔点为Tm(℃)的树脂形成,上述第2膜的(Tg+30)℃时的至少一个方向的收缩率为5~50%;收缩工序,将上述第3膜加热到Tg℃~(Tg+30)℃,使其沿着至少一个方向收缩,使其面积收缩5~50%而得到第4膜;以及二次加热工序,将上述第4膜加热到(Tg+50)℃~(Tm-40)℃。

    栅格起偏镜及其制法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101228463A

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200680026794.2

    申请日:2006-07-24

    Abstract: 本发明涉及一种栅格起偏镜,其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层;第2层,其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层,这些A层和B层被交替并列配置,所述A层包含双折射率(N=n-iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料,所述B层包含气体;第3层,其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。

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