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公开(公告)号：CN1914271A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200580003684.X
申请日：2005-01-28
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor： 大森宏纪
CPC classification number: C08L45/00
Abstract: 一种树脂组合物，特征在于其包含：在其分子中含有一个或多个选自羧基、二羧酸酐基团、羟基和酰亚胺基的基团的脂环族烯烃树脂、无机细颗粒、和溶剂；其制备方法；和由该树脂组合物形成的厚度为1－200μm的树脂膜。该树脂组合物可用作用于形成过滤特性优良并且同时具有优良透明性和优良平面内膜厚度均匀性的树脂膜的材料。该树脂膜可适宜用于电子零件例如显示元件、集成电路和固体照相元件，以及作为用于电子零件例如显示器用滤色器、保护膜、平坦化膜和电绝缘膜的树脂膜。
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公开(公告)号：CN1914271B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200580003684.X
申请日：2005-01-28
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor： 大森宏纪
CPC classification number: C08L45/00
Abstract: 一种树脂组合物，特征在于其包含：在其分子中含有一个或多个选自羧基、二羧酸酐基团、羟基和酰亚胺基的基团的脂环族烯烃树脂、无机细颗粒、和溶剂；其制备方法；和由该树脂组合物形成的厚度为1-200μm的树脂膜。该树脂组合物可用作用于形成过滤特性优良并且同时具有优良透明性和优良平面内膜厚度均匀性的树脂膜的材料。该树脂膜可适宜用于电子零件例如显示元件、集成电路和固体照相元件，以及作为用于电子零件例如显示器用滤色器、保护膜、平坦化膜和电绝缘膜的树脂膜。
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公开(公告)号：CN1961261B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200580017654.4
申请日：2005-03-30
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G03F7/038 , C08G59/32 , G03F7/033 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: C08G59/32 , C08L63/00 , G03F7/0007 , G03F7/038 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性组合物、在基板上形成使用该放射线敏感性组合物而形成的树脂膜的叠层体、以及该叠层体的制造方法，所述放射线敏感性组合物的电特性优异、不引起显影时的膜厚度的减少或显影膜的剥离、在高温加热后的形状保持性和透明性高、并且耐药品性优异。所述放射线敏感性组合物包含交联剂和放射线敏感性化合物，所述交联剂含有：含有与环氧基团反应的极性基团的聚合物、在主链结构中具有脂环结构并具有3个以上环氧基团的多官能环氧化合物。所述叠层体包括：基板、和使用该交联性树脂组合物而形成的树脂膜。
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公开(公告)号：CN1961261A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200580017654.4
申请日：2005-03-30
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G03F7/038 , C08G59/32 , G03F7/033 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: C08G59/32 , C08L63/00 , G03F7/0007 , G03F7/038 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性组合物、在基板上形成使用该放射线敏感性组合物而形成的树脂膜的叠层体、以及该叠层体的制造方法，所述放射线敏感性组合物的电特性优异、不引起显影时的膜厚度的减少或显影膜的剥离、在高温加热后的形状保持性和透明性高、并且耐药品性优异。所述放射线敏感性组合物包含交联剂和放射线敏感性化合物，所述交联剂含有：含有与环氧基团反应的极性基团的聚合物、在主链结构中具有脂环结构并具有3个以上环氧基团的多官能环氧化合物。所述叠层体包括：基板、和使用该交联性树脂组合物而形成的树脂膜。
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