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公开(公告)号:CN1388796A
公开(公告)日:2003-01-01
申请号:CN01802678.8
申请日:2001-04-27
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: G02B1/18 , C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C2217/213 , C03C2218/151 , C03C2218/152 , C03C2218/32 , C23C14/10 , C23C14/5853 , C23C16/0272 , C23C16/402 , C23C16/56 , G02B1/10
Abstract: 提供能够长时间维持高亲水性和保水性的基体材料的亲水化处理方法。在不大于100Pa的减压气氛下,在基体材料上形成SiO2膜,在其成膜后立即将上述SiO2膜进行水处理。该SiO2膜也包括:预先在上述基体材料上形成由TiO2膜、Al2O3膜、Nb2O5膜、在Al2O3膜上层叠TiO2膜的叠层膜、在Nb2O5膜上层叠TiO2膜的叠层膜或者通过CVD法形成的低放射率膜构成的基底层,在该基底层上形成上述SiO2膜的SiO2复合膜。
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公开(公告)号:CN1245347C
公开(公告)日:2006-03-15
申请号:CN01802678.8
申请日:2001-04-27
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: G02B1/18 , C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C2217/213 , C03C2218/151 , C03C2218/152 , C03C2218/32 , C23C14/10 , C23C14/5853 , C23C16/0272 , C23C16/402 , C23C16/56 , G02B1/10
Abstract: 提供能够长时间维持高亲水性和保水性的基体材料的亲水化处理方法。在不大于100Pa的减压气氛下,在基体材料上形成SiO2膜,在其成膜后立即将上述SiO2膜进行水处理。该SiO2膜也包括:预先在上述基体材料上形成由TiO2膜、Al2O3膜、Nb2O5膜、在Al2O3膜上层叠TiO2膜的叠层膜、在Nb2O5膜上层叠TiO2膜的叠层膜或者通过CVD法形成的低放射率膜构成的基底层,在该基底层上形成上述SiO2膜的SiO2复合膜。
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公开(公告)号:CN1254656A
公开(公告)日:2000-05-31
申请号:CN99117994.3
申请日:1999-08-20
Applicant: 日本板硝子株式会社
IPC: B44C1/28
Abstract: 一种玻璃镶板保持部件,在部件本体E上设有相对于内嵌在凹槽部5内的周边部分A1、A2从厚度方向的两侧紧密接触的紧密接触片6、对内嵌于凹槽部5内的周边部分A1、A2的相对于部件本体E在槽深方向上的相对位置进行定位的镶板定位部8、以及对内嵌于框架部件C1的部件本体E的相对于该框架部件C1在槽深方向上的相对位置进行定位的框架部件定位部9,还设有可自由改变镶板定位部8与框架部件定位部9二者在槽深方向上的相对位置的相对位置调节部。
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