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公开(公告)号:CN103875683A
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN201410092974.7
申请日:2009-11-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C25D17/002 , A01N43/80 , C09D5/14 , C09D5/4488 , C25D13/04 , C25D13/22 , C25D13/24 , C25D17/02 , A01N25/00 , A01N25/34 , A01N33/20 , A01N37/06 , A01N37/10 , A01N37/14 , A01N37/34 , A01N37/48 , A01N2300/00
Abstract: 本发明提供一种不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的机构等繁琐的工序也能在电沉积涂覆系统中持续杀菌·抗菌的杀菌·抗菌剂。具体而言,本发明提供由含有1,2-苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂、或者将1,2-苯并异噻唑啉-3-酮收纳在通水性容器中而形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂。另外,本发明提供一种阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的杀菌·抗菌方法,包括:将所述杀菌·抗菌剂放入阳离子电沉积涂覆系统的电沉积槽、电沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等,浸到阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的流通下,使1,2-苯并异噻唑啉-3-酮在阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中缓慢地溶解。
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公开(公告)号:CN102196726A
公开(公告)日:2011-09-21
申请号:CN200980142178.7
申请日:2009-11-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C25D17/002 , A01N43/80 , C09D5/14 , C09D5/4488 , C25D13/04 , C25D13/22 , C25D13/24 , C25D17/02 , A01N25/00 , A01N25/34 , A01N33/20 , A01N37/06 , A01N37/10 , A01N37/14 , A01N37/34 , A01N37/48 , A01N2300/00
Abstract: 本发明提供一种不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的机构等繁琐的工序也能在电沉积涂覆系统中持续杀菌·抗菌的杀菌·抗菌剂。具体而言,本发明提供由含有1,2-苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂、或者将1,2-苯并异噻唑啉-3-酮收纳在通水性容器中而形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂。另外,本发明提供一种阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的杀菌·抗菌方法,包括:将所述杀菌·抗菌剂放入阳离子电沉积涂覆系统的电沉积槽、电沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等,浸到阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的流通下,使1,2-苯并异噻唑啉-3-酮在阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中缓慢地溶解。
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