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公开(公告)号：CN101057007B
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200580038158.7
申请日：2005-08-05
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C04B35/119 , C04B35/4885 , C04B2235/3201 , C04B2235/3217 , C04B2235/3244 , C04B2235/44 , C04B2235/442 , C04B2235/447 , C04B2235/449 , C04B2235/5445 , C04B2235/76 , C04B2235/762 , C04B2235/765 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/963 , C25D7/10 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/26 , C25D11/30
Abstract: 本发明的课题在于提供金属的电解陶瓷涂布方法，该方法可以得到即使是薄膜，其硬度也高、耐磨性、韧性也优异，并且在不进行抛光就使用于滑动部件时，对配对部件的攻击性也低的被膜.上述课题可以通过下述的金属的电解陶瓷涂布方法来实现，所述方法为：在含有锆化合物的电解液中以金属作为阳极进行电解处理，在上述金属的表面形成陶瓷被膜。
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公开(公告)号：CN101057007A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200580038158.7
申请日：2005-08-05
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C04B35/119 , C04B35/4885 , C04B2235/3201 , C04B2235/3217 , C04B2235/3244 , C04B2235/44 , C04B2235/442 , C04B2235/447 , C04B2235/449 , C04B2235/5445 , C04B2235/76 , C04B2235/762 , C04B2235/765 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/963 , C25D7/10 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/26 , C25D11/30
Abstract: 本发明的课题在于提供金属的电解陶瓷涂布方法，该方法可以得到即使是薄膜，其硬度也高、耐磨性、韧性也优异，并且在不进行抛光就使用于滑动部件时，对配对部件的攻击性也低的被膜。上述课题可以通过下述的金属的电解陶瓷涂布方法来实现，所述方法为：在含有锆化合物的电解液中以金属作为阳极进行电解处理，在上述金属的表面形成陶瓷被膜。
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公开(公告)号：CN101522957A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036437.9
申请日：2007-09-12
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C25D11/30 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/06 , C25D11/26 , C25D15/02 , H05K1/053
Abstract: 本发明提供金属的陶瓷被膜涂布方法，该方法对镁合金等各种金属基材形成致密的被膜，所得被膜的耐磨性优异，对配对材料的攻击性低，并且耐腐蚀性优异。该方法是在电解液中，以金属基体作为工作电极，在金属基体的表面上产生辉光放电和/或电弧放电的同时进行电解处理，在金属基体表面形成陶瓷被膜的金属的陶瓷被膜涂布方法，其中，电解液含有平均粒径1μm以下的氧化锆粒子，将电解液中的氧化锆粒子之含量表示为X，将氧化锆以外的选自Mg等至少1种元素的化合物之含量表示为Y时，满足下式(1)－(3)，pH为7.0以上，0.05g/L≤X≤500g/L(1)；0g/L≤Y≤500g/L(2)；0≤Y/X≤10(3)。
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