公开(公告)号：CN107923028B

公开(公告)日：2020-01-24

申请号：CN201680047996.9

申请日：2016-09-08

Applicant: 日本制铁株式会社

Inventor： 梅原崇秀 ,  祐谷将人 ,  大藤善弘

IPC: C23C8/26 ,  C21D9/00 ,  C21D9/30 ,  C22C38/00 ,  C22C38/60

Abstract: 本发明涉及一种能够满足部件的小型轻量化或高负载容量的要求的弯曲矫正性和弯曲疲劳特性优异的氮化处理钢部件，其特征在于，以下述钢材作为原材料，所述钢材以质量％计含有：C：0.2～0.6％、Si：0.05～1.5％、Mn：0.2～2.5％、P：0.025％以下、S：0.003～0.05％、Cr：0.05～0.5％、Al：0.01～0.05％和N：0.003～0.025％，并且剩余部分为Fe和杂质，所述氮化处理钢部件具有形成于钢表面的含有铁、氮和碳的厚度为3μm以下的化合物层和形成于化合物层之下的硬化层，有效硬化层深度为160～410μm。

公开(公告)号：CN111406123B

公开(公告)日：2021-11-26

申请号：CN201880074035.6

申请日：2018-11-16

Applicant: 日本制铁株式会社

Inventor： 梅原崇秀 ,  祐谷将人

IPC: C22C38/00 ,  C21D1/06 ,  C21D9/30 ,  C21D9/32 ,  C22C38/60 ,  C23C8/26

Abstract: 本发明的课题是提供不仅旋转弯曲疲劳强度优异而且面疲劳强度或耐磨性也优异的部件。在本发明中，按照目标特性来调整钢的成分、特别是C、Mn、Cr、V、Mo的含量，在氮势控制下制作氮化部件。

公开(公告)号：CN111406123A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN201880074035.6

申请日：2018-11-16

Applicant: 日本制铁株式会社

Inventor： 梅原崇秀 ,  祐谷将人

IPC: C22C38/00 ,  C21D1/06 ,  C21D9/30 ,  C21D9/32 ,  C22C38/60 ,  C23C8/26

Abstract: 本发明的课题是提供不仅旋转弯曲疲劳强度优异而且面疲劳强度或耐磨性也优异的部件。在本发明中，按照目标特性来调整钢的成分、特别是C、Mn、Cr、V、Mo的含量，在氮势控制下制作氮化部件。

公开(公告)号：CN107406959B

公开(公告)日：2020-02-04

申请号：CN201680013021.4

申请日：2016-03-24

Applicant: 日本制铁株式会社

Inventor： 梅原崇秀 ,  祐谷将人

IPC: C23C8/26 ,  C21D1/06 ,  C21D1/76 ,  C21D9/32 ,  C22C38/00 ,  C22C38/60 ,  C23C8/32

Abstract: 提供耐磨性和耐点蚀性优异的氮化处理部件和软氮化处理部件以及氮化处理方法、软氮化处理方法。一种氮化处理部件或软氮化处理部件，其特征在于，是采用钢材来制成的，所述钢材以质量％计包含C：0.05～0.3％、Si：0.05～1.5％、Mn：0.2～1.5％、P：0.025％以下、S：0.003～0.05％、Cr：0.5～2.0％、Al：0.01～0.05％以及N：0.003～0.025％，余量包含Fe以及杂质，表层包含含有铁、氮和碳的化合物层和位于其下方的氮扩散层，所述化合物层由ε单相构成，所述ε单相的厚度为8～30μm，维氏硬度为680HV以上，所述ε单相中的孔隙的体积率小于10％。

公开(公告)号：CN107849679B

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：CN201680043181.3

申请日：2016-09-08

Applicant: 日本制铁株式会社

Inventor： 梅原崇秀 ,  祐谷将人 ,  大藤善弘

IPC: C23C8/26 ,  C21D9/00 ,  C21D9/32 ,  C22C38/00 ,  C22C38/60

Abstract: 本发明涉及一种能够满足部件的小型轻量化或高负载容量的要求的耐点蚀性和弯曲疲劳特性优异的氮化处理钢部件，其特征在于，以下述钢材作为原材料，所述钢材以质量％计含有：C：0.05～0.25％、Si：0.05～1.5％、Mn：0.2～2.5％、P：0.025％以下、S：0.003～0.05％、Cr：大于0.5％且小于等于2.0％、Al：0.01～0.05％、和N：0.003～0.025％，并且剩余部分为Fe和杂质，所述氮化处理钢部件具有形成于钢表面的含有铁、氮和碳的厚度为3μm以下的化合物层和形成于化合物层之下的硬化层，有效硬化层深度为160～410μm。