公开(公告)号：CN103826849A

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201280047228.5

申请日：2012-09-26

Applicant: 日本写真印刷株式会社

Inventor： 奥原进一郎 ,  大西厚史

IPC: B32B27/18 ,  B32B27/30

CPC classification number: C08J7/042 ,  C08J2433/04

Abstract: 本发明涉及一种转印片，具备形成在基体片上的第1保护层和形成在第1保护层上的第2保护层。第1保护层和第2保护层均为以丙烯酸酯为主成分的硬涂层，在第1保护层和第2保护层中的至少任一方中添加分子量100～500的由SiR3D表示的硅烷偶联剂来粘接两保护层。R是含有至少1个以上环氧基、乙烯基、甲基丙烯酰基、巯基、苯乙烯基中的任一个的烷基直链，D是OMe、OEt、OEtOMe、OEtOEt中的任一个，Me表示甲基，Et表示乙基。

公开(公告)号：CN103826849B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201280047228.5

申请日：2012-09-26

Applicant: 日本写真印刷株式会社

Inventor： 奥原进一郎 ,  大西厚史

IPC: B32B27/18 ,  B32B27/30

CPC classification number: C08J7/042 ,  C08J2433/04

Abstract: 本发明涉及一种转印片，具备形成在基体片上的第1保护层和形成在第1保护层上的第2保护层。第1保护层和第2保护层均为以丙烯酸酯为主成分的硬涂层，在第1保护层和第2保护层中的至少任一方中添加分子量100～500的由SiR3D表示的硅烷偶联剂来粘接两保护层。R是含有至少1个以上环氧基、乙烯基、甲基丙烯酰基、巯基、苯乙烯基中的任一个的烷基直链，D是OMe、OEt、OEtOMe、OEtOEt中的任一个，Me表示甲基，Et表示乙基。

公开(公告)号：CN102205755A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110005932.1

申请日：2011-01-06

Applicant: 日本写真印刷株式会社

Inventor： 前田哲宏 ,  奥原进一郎 ,  北村真一 ,  滨井健太

IPC: B41M5/00 ,  B32B27/08

Abstract: 一种转印片及其制造方法，该转印片具有剥离片和转印层，所述剥离片具有基片、在该基片的面上的一部分形成的不从基片剥离的消光层、及在该基片和消光层的面上形成的脱模层，所述转印层具有在该脱模层的面上形成的硬涂层。据此，对于具有不从基片剥离的部分消光层及被覆该部分消光层的硬涂层的转印片，即便在基片的光泽区域形成了浮垢的情况下，也能防止其表面结构被转印到转印层的最外侧面。

公开(公告)号：CN102205755B

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201110005932.1

申请日：2011-01-06

Applicant: 日本写真印刷株式会社

Inventor： 前田哲宏 ,  奥原进一郎 ,  北村真一 ,  滨井健太

IPC: B41M5/00 ,  B32B27/08

Abstract: 一种转印片及其制造方法，该转印片具有剥离片和转印层，所述剥离片具有基片、在该基片的面上的一部分形成的不从基片剥离的消光层、及在该基片和消光层的面上形成的脱模层，所述转印层具有在该脱模层的面上形成的硬涂层。据此，对于具有不从基片剥离的部分消光层及被覆该部分消光层的硬涂层的转印片，即便在基片的光泽区域形成了浮垢的情况下，也能防止其表面结构被转印到转印层的最外侧面。