-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1225569C
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN03145846.7
申请日：2003-07-10
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/347 , Y10T428/12625 , Y10T428/24975 , Y10T428/265 , Y10T428/30 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明涉及一种覆碳膜部件，它包括基底；在该基底至少一部分上形成的混合层，它包含构成基底的元素和钨；在该混合层上形成的钨膜；在该钨膜上形成的碳膜。
-
公开(公告)号：CN1205353C
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN02160651.X
申请日：2002-11-30
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: C23C14/32
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J2237/022
Abstract: 为防止因磁过滤器的磁场作用而使得膜形成特性的降低，为使得真空电弧蒸镀均匀，本发明中提供多个磁铁，该磁铁包括最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁以及规定磁铁。最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁倾斜于等离子体喷射孔的等离子体喷射平面。另外，至少一个规定磁铁倾斜于等离子体喷射平面。此外，至少一个磁场产生线圈是由多个电磁线圈形成的，该电磁线圈相对于管的横截面以不同的角度倾斜。根据由磁过滤器所产生的偏转磁场的设置和控制，有选择地对一个电磁线圈通电。
-
公开(公告)号：CN1424428A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：CN02160651.X
申请日：2002-11-30
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: C23C14/32
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J2237/022
Abstract: 为防止因磁过滤器的磁场作用而使得膜形成特性的降低，为使得真空电弧蒸镀均匀，本发明中提供多个磁铁，该磁铁包括最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁以及规定磁铁。最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁倾斜于等离子体喷射孔的等离子体喷射平面。另外，至少一个规定磁铁倾斜于等离子体喷射平面。此外，至少一个磁场产生线圈是由多个电磁线圈形成的，该电磁线圈相对于管的横截面以不同的角度倾斜。根据由磁过滤器所产生的偏转磁场的设置和控制，有选择地对一个电磁线圈通电。
-
公开(公告)号：CN1332266A
公开(公告)日：2002-01-23
申请号：CN01122564.5
申请日：2001-07-06
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 村上浩
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32614
Abstract: 真空电弧蒸发源30通过真空电弧放电来蒸发阴极以便由此产生含有阴极材料的等离子体36和38。真空电弧蒸发源30具有含有互不相同的种类的材料并且互相电绝缘的两个阴极32和34。阴极32和34通过绝缘材料40互相同轴地配置。可交换地使用这两个阴极32和34,以便可以通过在数量上少于先有技术的蒸发源来形成包括多个异质薄膜的叠层薄膜。
-
公开(公告)号：CN1475597A
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN03145846.7
申请日：2003-07-10
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/347 , Y10T428/12625 , Y10T428/24975 , Y10T428/265 , Y10T428/30 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明涉及一种覆碳膜部件，它包括基底；在该基底至少一部分上形成的混合层，它包含构成基底的元素和钨；在该混合层上形成的钨膜；在该钨膜上形成的碳膜。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.019 seconds)
