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公开(公告)号：CN115136074A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180015688.9
申请日：2021-02-22
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物(X)、以及溶剂，上述聚合物(X)包含具有甲氧基甲基和除甲氧基甲基以外的ROCH2‑基(R为一价有机基、氢原子或它们的混合)的相同或不同的多个结构单元、和将上述多个结构单元连接的连接基。
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