公开(公告)号：CN111512505B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN201880083937.6

申请日：2018-12-20

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 三次智纪 ,  田中政信 ,  汤藤祐且 ,  原章德 ,  野口辉彦

IPC: H01S5/022 ,  H01S5/062

Abstract: 光学部件(1A)具有：转换部件(2)，其具有成为光取出面(2a)的第一面，能够将作为激发光的激光转换成不同波长的光；保持部件(3)，其对转换部件(2)进行保持，具有与第一面连续的第二面；线状的配线(4)，其从第一面到第二面连续形成。

公开(公告)号：CN118431888A

公开(公告)日：2024-08-02

申请号：CN202410397802.4

申请日：2018-12-20

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 三次智纪 ,  田中政信 ,  汤藤祐且 ,  原章德 ,  野口辉彦

IPC: H01S5/02326 ,  H01S5/0239 ,  H01S5/062

Abstract: 光学部件(1A)具有：转换部件(2)，其具有光照射面和与光照射面相反的光取出面，能够将作为激发光的激光转换成不同波长的光；保持部件(3)，其对转换部件(2)进行保持，具有与作为光照射面和光取出面的一方的第一面在同一平面上连续的第二面；透光性膜，其以覆盖第一面和第二面的方式形成；线状的配线，其由导电材料构成，形成于透光性膜，在两端侧与通电部电连接，并且与用于检测由线状配线的破损引起的电阻值变化的检测电路连接。

公开(公告)号：CN118393613A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410108911.X

申请日：2024-01-25

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 汤藤祐且

IPC: G02B1/00 ,  H01S5/02255 ,  G02B1/10 ,  G02B5/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种小尺寸的硅光学部件。本发明的硅光学部件的制造方法具有如下的工序：准备具有第一主面及所述第一主面相反侧的第二主面的硅基板；在所述第一主面上形成掩模图案；使用所述掩模图案作为掩模从所述第一主面侧对所述硅基板进行湿式蚀刻，形成一个或多个倾斜面；支承所述硅基板的所述第一主面侧，以不到达所述一个或多个倾斜面的方式将所述硅基板从所述第二主面向所述第一主面侧部分地除去，在比所述第二主面靠所述第一主面侧形成第三主面；在所述第三主面设置反射膜，形成反射面；将所述硅基板单片化为分别包含所述倾斜面及所述反射面的多个光学部件。

公开(公告)号：CN111512505A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201880083937.6

申请日：2018-12-20

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 三次智纪 ,  田中政信 ,  汤藤祐且 ,  原章德 ,  野口辉彦

IPC: H01S5/022 ,  H01S5/062

Abstract: 光学部件(1A)具有：转换部件(2)，其具有成为光取出面(2a)的第一面，能够将作为激发光的激光转换成不同波长的光；保持部件(3)，其对转换部件(2)进行保持，具有与第一面连续的第二面；线状的配线(4)，其从第一面到第二面连续形成。