公开(公告)号：CN101218090A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200680022506.6

申请日：2006-06-21

Applicant: 日东电工株式会社 ,  日本发条株式会社

Inventor： 梅本清司 ,  神野一仁 ,  柴田和成 ,  竹内逸雄 ,  坂内宗穗 ,  井田亘

IPC: B32B7/02 ,  B42D15/10 ,  G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02B5/32

CPC classification number: G02B5/3033 ,  B42D25/373 ,  B42D25/391 ,  B42D2033/10 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/32 ,  G07D7/121

Abstract: 本发明提供一种在相位差薄膜部分地产生分子取向的缓和从而形成认证信息的潜像时不需要复杂的工序而且不会由于在表面形成凹凸而使潜像可见化的叠层反射体。其是一种具有设定成相对观察波长λ的相位差Δnd1为m×λ/4－λ/16≤Δnd1≤m×λ/4m+λ/16(m为正的奇数)的相位差薄膜(10)和在该相位差薄膜(10)的背面侧叠层的金属反射板(11)的叠层反射体(1)，将在相位差薄膜(10)上预先形成的规定的认证信息的认证区域(10a)形成为其相位差Δnd2为n×λ/4－λ/8≤Δnd2≤n×λ/4+λ/8(n为0或正的偶数，其中，n＜m)，进而在相位差薄膜(10)的正面侧形成光散射层(12)。

公开(公告)号：CN101218090B

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN200680022506.6

申请日：2006-06-21

Applicant: 日东电工株式会社 ,  日本发条株式会社

Inventor： 梅本清司 ,  神野一仁 ,  柴田和成 ,  竹内逸雄 ,  坂内宗穗 ,  井田亘

IPC: B32B7/02 ,  B42D15/10 ,  G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02B5/32

CPC classification number: G02B5/3033 ,  B42D25/373 ,  B42D25/391 ,  B42D2033/10 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/32 ,  G07D7/121

Abstract: 本发明提供一种在相位差薄膜部分地产生分子取向的缓和从而形成认证信息的潜像时不需要复杂的工序而且不会由于在表面形成凹凸而使潜像可见化的叠层反射体。其是一种具有设定成相对观察波长λ的相位差Δnd1为m×λ/4-λ/16≤Δnd1≤m×λ/4m+λ/16(m为正的奇数)的相位差薄膜(10)和在该相位差薄膜(10)的背面侧叠层的金属反射板(11)的叠层反射体(1)，将在相位差薄膜(10)上预先形成的规定的认证信息的认证区域(10a)形成为其相位差Δnd2为n×λ/4-λ/8≤Δnd2≤n×λ/4+λ/8(n为0或正的偶数，其中，n＜m)，进而在相位差薄膜(10)的正面侧形成光散射层(12)。