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公开(公告)号：CN115139595A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210328939.5
申请日：2022-03-30
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B23/20 , B32B17/00 , B32B17/06 , B32B17/10 , B32B27/36 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B33/00 , B32B7/12 , G02B1/14
Abstract: 提供硬度高、卷曲得到抑制、且视觉辨识侧表面与其它层的密合性高的硬涂薄膜、光学构件及图像显示装置。为了达到上述目的，本发明的硬涂薄膜(100a)及(100b)的特征在于，包含基材(110)、第1硬涂层(101)、第2硬涂层(102)和第3硬涂层(103)，第1硬涂层(101)、第2硬涂层(102)、基材和第3硬涂层(103)从视觉辨识侧起按照该顺序而层叠，第1硬涂层(101)及第2硬涂层(102)分别包含纳米二氧化硅颗粒，第1硬涂层(101)中所含的纳米二氧化硅颗粒(101P)的重均粒径大于第2硬涂层(102)中所含的纳米二氧化硅颗粒(102P)的重均粒径。
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公开(公告)号：CN118550017A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410196183.2
申请日：2024-02-22
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够兼顾防眩性和与其他层的密合性的防眩性膜、光学构件以及图像显示装置。为了实现所述目的，本发明的防眩性膜(10)的特征在于，其是包含防眩层(12)的防眩性膜，防眩层(12)含有防眩性粒子(12b)及纳米粒子(12c)，在防眩层(12)的一个表面形成凹凸，防眩层(12)表面的所述凹凸满足以下的数学式(1)和(2)。在所述数学式(1)中，Sa是所述凹凸的表面粗糙度[nm]，在所述数学式(2)中，Ra是所述凹凸的平均高度[nm]。2≤Sa≤8 (1)；0.1×103≤Ra (2)。
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公开(公告)号：CN118550007A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410191766.6
申请日：2024-02-21
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供能够抑制光学膜制造时的卷曲的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法的其特征在于，其是包括基材(11)、第一光学层(12)及第二光学层(13)的光学膜的制造方法，包括：第一光学层形成工序，其在基材(11)的一个面上形成第一光学层(12)；和第二光学层形成工序，其在上述第一光学层形成工序之后，在基材(11)的另一个面上形成第二光学层(13)，在上述第一光学层形成工序中，以第一光学层(12)的宽度与基材(11)的宽度的关系满足下述数学式(1)的方式形成上述第一光学层。0.8≤(HC1a/P1)≤0.95(1)，HC1a是第一光学层(12)的宽度[mm]，P1是基材(11)的宽度[mm]。
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公开(公告)号：CN115151843A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016863.6
申请日：2021-02-26
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够应用于具有相机功能的图像显示装置、且不会阻碍相机功能的防眩膜。本发明的防眩膜具备透明基材和配置于该透明基材的至少一个面上的防眩层，该防眩层由防眩区域和非防眩区域构成。在一个实施方式中，所述非防眩区域为所述防眩层的贯通孔。在一个实施方式中，在所述非防眩区域中，所述防眩层的与所述透明基材成相反侧的表面为平滑面。
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公开(公告)号：CN114573849A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202111431413.1
申请日：2021-11-29
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。光学薄膜的制造方法的特征在于，在非透明层的贯通孔内形成透明层，掩蔽材料被覆工序中用形成有透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆基材的一个面，透明层形成工序中在透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成透明层，掩蔽材料去除工序中将掩蔽材料从基材去除，非透明层形成工序中在基材的透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成非透明层，透明层形成用贯通孔外周的掩蔽材料的最小厚度T2(μm)与透明层的最薄部的厚度T1(μm)的比值T2/T1为3以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114651197A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202080078119.4
申请日：2020-11-10
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/02 , G09F9/00 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种雾度值不易变化的防眩性膜。本发明的防眩性膜，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性膜(10)，其特征在于：防眩层(B)(12)包含防眩层形成用树脂(B1)(12a)与至少一种雾度调整用填料(B2)(12b)；雾度调整用填料(B2)(12b)在利用纳米压痕法施加2000μN的载荷时，位移量为1540nm以下，且弹性回复率为30％以上；防眩性膜10的总雾度值为5～45％的范围。
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公开(公告)号：CN114651196A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202080078118.X
申请日：2020-11-10
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/02 , G09F9/00 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种雾度值不易变化的防眩性膜。本发明的防眩性膜，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性膜(10)，其特征在于：防眩层(B)(12)包含防眩层形成用树脂(B1)(12a)与至少一种雾度调整用填料(B2)(12b)；雾度调整用填料(B2)(12b)是由Pst(聚苯乙烯)与PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)的共聚物所构成的填料；所述雾度调整用填料(B2)(12b)单体的利用拉曼分光光谱所得PMMA波峰/Pst波峰的波峰面积比为0.51以上，且所述波峰面积是以与相邻波峰的间的极小点作为边界算出的波峰面积；防眩性膜(10)的总雾度值为5～45％的范围。
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公开(公告)号：CN118772469A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410393013.3
申请日：2024-04-02
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08J7/04 , C09D125/06 , C09D7/61 , C08L1/12
Abstract: 本发明提供表面处理片的制造方法，该方法具备：将至少包含溶剂和增粘剂的涂敷液涂敷于三乙酸纤维素膜的工序、和使上述溶剂从上述涂敷液挥发的工序，上述三乙酸纤维素膜含有在分子末端具有芳环的聚酯成分，上述溶剂至少含有甲苯和乙酸乙酯，上述溶剂中的上述乙酸乙酯的含有率为7质量％以上且11质量％以下，在上述使溶剂挥发的工序中，在最高温度为70℃以上且100℃以下的温度条件下使上述溶剂挥发。
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公开(公告)号：CN118667445A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410296776.6
申请日：2024-03-15
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供能够抑制涂布条纹的产生的树脂组合物。本发明的树脂组合物是用于形成层叠在树脂基材的至少一个面上的表面处理层的树脂组合物，其特征在于，在将剪切速度1[1/s]下的上述树脂组合物的剪切粘度的最大值设为A，将剪切速度从1000[1/s]切换到1[1/s]之后60秒后的上述树脂组合物的剪切粘度设为B时，下述式(1)中的X为1.6以下。X＝A/B(1)。
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