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公开(公告)号：CN1690152B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200510067340.7
申请日：2005-04-20
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J133/06 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供光学部件用粘合剂组合物、所述粘合剂组合物的制造方法、对所述粘合剂组合物进行过氧化物交联处理而形成的粘合剂层、在光学部件的一面或两面上形成有所述粘合剂层的带粘合剂光学部件、以及使用至少一个所述光学部件的图像显示装置。所述的光学部件用粘合剂组合物包含：将作为单体单元的、具有碳原子数为4以上的烷基的(甲基)丙烯酸酯至少含有50重量％的、(甲基)丙烯酸类聚合物(A)100重量份、过氧化物0.02～2重量份、以及硅烷偶合剂0.01～1重量份。由此，在高温高湿下保存也不发生剥离或脱皮的耐久性出色，且在制造带粘合剂光学部件之后，迅速完成冲裁加工处理的生产能力出色。
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公开(公告)号：CN1683464B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200510065750.8
申请日：2005-04-14
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J133/06 , B32B7/12 , G02F1/1347
Abstract: 一种光学构件用粘合剂组合物，含有(甲基)丙烯酸系聚合物和有机溶剂，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物作为单体单元含有60重量％以上的具有碳原子数为1～9的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，且重均分子量为150万以上，且分子量为10万以下的成分的比例为20重量％以下，当构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的主要单体单元的均聚物的溶解度参数为δ1时，具有使溶解度参数之差(δ1-δ2)达到+1.7～+5的溶解度参数δ2的弱溶剂的含量为上述有机溶剂的总量的20～60重量％。本发明可以提供无需在涂敷时特别增加溶剂量而能够改善涂敷性并维持耐久性的、加工性也出色的光学构件用粘合剂组合物，使用该组合物而形成的粘合剂层，以及其制造方法。
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公开(公告)号：CN101107547A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200680002541.1
申请日：2006-01-10
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C09J133/06 , C09J11/06
CPC classification number: C09J133/04
Abstract: 一种光学部件用粘合剂组合物，其含有：(甲基)丙烯酸类聚合物、碳原子数6～9的烃类溶剂(A)、及沸点高于所述烃类溶剂且(甲基)丙烯酸类聚合物的溶解度高于所述烃类溶剂的高沸点高溶解度溶剂(B)，所述烃类溶剂(A)的含量为总有机溶剂的20～60重量％，而且相对所述高沸点高溶解度溶剂(B)的含量(重量％)的所述烃类溶剂(A)的含量(重量％)的比(高沸点高溶解度溶剂(B)/烃类溶剂(A))为0.05～4。根据本发明可提供能够形成粘度小因而涂敷性好、可以削减有机溶剂使用量、耐久性优良且表面均一性高的粘合剂层的光学部件用粘合剂组合物。
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公开(公告)号：CN1734297A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510088129.3
申请日：2005-07-29
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1333
CPC classification number: G02B5/3083 , G02F1/13363 , G02F2001/133635 , G02F2202/28 , Y10T428/28 , Y10T428/2848
Abstract: 本发明提供一种具有相位差的粘合剂层及其制造方法。本发明的相位差粘合剂层，是光学透明的粘合剂层的拉伸物，其特征在于，通过拉伸显示出相位差。
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公开(公告)号：CN100510806C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200580016361.4
申请日：2005-05-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/02 , B32B7/12 , C09J201/00 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/14 , B32B7/12 , B32B23/08 , B32B23/20 , B32B27/306 , B32B27/36 , B32B2307/21 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2307/516 , B32B2457/20 , G02B1/105 , G02B1/16 , G02F1/13363 , G02F2202/22 , Y10T428/273 , Y10T428/28
Abstract: 本发明提供一种带有表面保护薄膜的光学薄膜，在光学薄膜表面借助表面保护薄膜的粘合剂层设置表面保护薄膜，所述的表面保护薄膜具有基材薄膜和粘合剂层；与所述粘合剂层相接的光学薄膜表面被活性化处理，所述表面保护薄膜的粘合剂层含有离子系防静电剂。该带有表面保护薄膜的光学薄膜，可以降低从光学薄膜剥离表面保护薄膜时产生的剥离静电量，且不存在剥离表面保护薄膜之后的光学薄膜表面的污染性的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100426019C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200510088129.3
申请日：2005-07-29
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1333
CPC classification number: G02B5/3083 , G02F1/13363 , G02F2001/133635 , G02F2202/28 , Y10T428/28 , Y10T428/2848
Abstract: 本发明提供一种具有相位差的粘合剂层及其制造方法。本发明的相位差粘合剂层，是光学透明的粘合剂层的拉伸物，其特征在于，通过拉伸显示出相位差。
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公开(公告)号：CN1707326A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200510076004.9
申请日：2005-06-03
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335
Abstract: 一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。本发明提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下可容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，还提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。
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公开(公告)号：CN1661394A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN200510052186.6
申请日：2005-02-28
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/10 , G02F1/1335 , G09F9/00
Abstract: 本发明提供一种防静电性粘合型光学薄膜，它是在光学薄膜的至少一面依次层压了防静电层、粘合剂层的防静电性粘合型光学薄膜，该防静电层含有金属氧化物。本发明还提供该防静电性粘合型光学薄膜的制造方法、以及包含该防静电性粘合型光学薄膜的图像形成装置。
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公开(公告)号：CN100460948C
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200510076004.9
申请日：2005-06-03
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/30
Abstract: 一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。本发明提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下可容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，还提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。
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