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公开(公告)号:CN101281258A
公开(公告)日:2008-10-08
申请号:CN200810085406.9
申请日:2008-03-12
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/10 , G02B5/30 , B32B38/14 , G02F1/13357 , G02F1/1335
Abstract: 本发明目的是提供一种具有可以容易地确认光轴的轴方向、并且标记在缺陷检查中不会影响检查这样结构的光学薄膜体及该光学薄膜体的制造方法。所述光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠保护该光学薄膜层表面的表面保护薄膜而形成的光学薄膜体,其特征在于,在通过印刷,于所述表面保护薄膜上形成与所述光轴相关的光轴信息的情况下,该被印刷的光轴信息即印刷形成物,其周边部位的印刷密度被形成为比该印刷形成物的内部的印刷密度更小。
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公开(公告)号:CN111558741A
公开(公告)日:2020-08-21
申请号:CN202010088117.5
申请日:2020-02-12
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种制造方法,该方法是制造通过数次的立铣刀加工而切削出的光学薄膜的方法,且能够容易地判断有无精加工。本发明的光学薄膜的制造方法包括将光学薄膜层叠多片形成工件、以及用立铣刀切削该工件的外周面的立铣刀加工工序,该立铣刀加工工序包括用立铣刀粗削该工件的外周面的粗削工序、以及用立铣刀精加工已粗削的该工件的外周面,该粗削工序包括在该工件的外周面设置未切削部分,该精加工包括切削该未切削部分。
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公开(公告)号:CN101241203A
公开(公告)日:2008-08-13
申请号:CN200810002970.X
申请日:2008-01-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B37/12
CPC classification number: G02B5/305
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够容易确认光轴的轴方向,并且按照在缺陷检查中使标记不成为干扰的方式构成的光学薄膜体及该光学薄膜体的制造方法。该光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠用于保护该光学薄膜层的表面的表面保护薄膜而成,其特征在于,使与光轴相关的光轴信息介于光学薄膜层与所述表面保护薄膜之间。
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