公开(公告)号：CN114144702A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202180004606.0

申请日：2021-02-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 桥本尚树 ,  中川大五郎 ,  岛谷和宏 ,  波多野良知 ,  安藤豪彦 ,  中田美惠

IPC: G02B1/14 ,  G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 提供一种反射眩光得到抑制、并且抑制或防止了条纹和横向条痕的防眩性硬涂薄膜。一种防眩性硬涂薄膜(10)，其特征在于，在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩性硬涂层(B)(12)，防眩性硬涂层(B)(12)由树脂层(12a)形成，在树脂层(12a)内部包含第1颗粒(12b1)和第2颗粒(12b2)，第1颗粒(12b1)与第2颗粒(12b2)的质量的合计相对于形成树脂层(12a)的树脂的总质量为2～25质量％，在防眩性硬涂薄膜(10)中的防眩性硬涂层(B)(12)侧的最表面形成有凹凸，第1颗粒(12b1)的重均粒径满足下述数学式(1)，第2颗粒(12b2)的重均粒径满足下述数学式(2)，所述最表面的凹凸形状满足下述数学式(3)和(4)。3.0＜d1≤8.5[μm](1)；1.0≤d2≤3.0[μm](2)；Ry：1.0≤Ry≤7.0[μm](3)；θa：1.0≤θa≤7.5[°](4)。所述数学式(1)中，d1为所述第1颗粒的重均粒径[μm]，所述数学式(2)中，d2为所述第2颗粒的重均粒径[μm]，所述数学式(3)中，Ry为所述凹凸的凸部的最大高度[μm]，所述数学式(4)中，θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]。

公开(公告)号：CN114144702B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202180004606.0

申请日：2021-02-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 桥本尚树 ,  中川大五郎 ,  岛谷和宏 ,  波多野良知 ,  安藤豪彦 ,  中田美惠

IPC: G02B1/14 ,  G02B5/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 提供一种反射眩光得到抑制、并且抑制或防止了条纹和横向条痕的防眩性硬涂薄膜。一种防眩性硬涂薄膜(10)，其特征在于，在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩性硬涂层(B)(12)，防眩性硬涂层(B)(12)由树脂层(12a)形成，在树脂层(12a)内部包含第1颗粒(12b1)和第2颗粒(12b2)，第1颗粒(12b1)与第2颗粒(12b2)的质量的合计相对于形成树脂层(12a)的树脂的总质量为2～25质量％，在防眩性硬涂薄膜(10)中的防眩性硬涂层(B)(12)侧的最表面形成有凹凸，第1颗粒(12b1)的重均粒径满足下述数学式(1)，第2颗粒(12b2)的重均粒径满足下述数学式(2)，所述最表面的凹凸形状满足下述数学式(3)和(4)。3.0＜d1≤8.5[μm](1)；1.0≤d2≤3.0[μm](2)；Ry：1.0≤Ry≤7.0[μm](3)；θa：1.0≤θa≤7.5[°](4)。所述数学式(1)中，d1为所述第1颗粒的重均粒径[μm]，所述数学式(2)中，d2为所述第2颗粒的重均粒径[μm]，所述数学式(3)中，Ry为所述凹凸的凸部的最大高度[μm]，所述数学式(4)中，θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]。

公开(公告)号：CN117654825A

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN202311141176.4

申请日：2023-09-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 西尾美保 ,  足立贵之 ,  西乡公史 ,  岛谷和宏

IPC: B05C1/08 ,  B05C11/11

Abstract: 本发明的目的是提供一种能够抑制缺陷的发生的凹版涂布装置、层叠体的制造方法、光学膜的制造方法、图像显示装置的制造方法和涂布单元。本发明的凹版涂布装置的特征在于，其包含：在基材的至少一个面上涂布涂液的涂布部；和使所述涂布后的所述涂液干燥而形成树脂层的干燥部，所述涂布部包含凹版辊和涂液贮存部，所述凹版辊能够使所述涂液贮存部所贮存的所述涂液充满所述凹版辊的表面的小室内，所述涂布是通过将所述小室内的所述涂液转印到所述基材上来进行，在所述涂液贮存部中，所述涂液贮存部能够贮存的最大量的涂液的供给和排出是每150秒以内进行一次。