公开(公告)号：CN101495665B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200780027962.4

申请日：2007-07-18

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 丸山淳平 ,  小泉康浩

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/32 ,  C22C5/06 ,  C23C14/06 ,  G11B7/26

CPC classification number: C23C14/14 ,  C22C5/06 ,  C23C14/32 ,  G11B7/266 ,  G11B11/10582

Abstract: 本发明的真空成膜装置(100)具备内部能够减压的真空槽(20)、在真空槽(20)内支持基板(11)的基板托架(12)、对基板托架(12)施加偏压的偏置电源(V1)、在真空槽内，配置在银中添加铋的反射膜用的材料的材料支架(15)、以及从材料支架(15)向基板放出材料，同时在材料放出时使所述材料离子化的材料放出手段，基于偏压使离子化的材料的动能增加，以在基板上堆积材料构成的反射膜，反射膜的反射率基于偏压以及铋的添加量进行调整。

公开(公告)号：CN101495665A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780027962.4

申请日：2007-07-18

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 丸山淳平 ,  小泉康浩

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/32 ,  C22C5/06 ,  C23C14/06 ,  G11B7/26

CPC classification number: C23C14/14 ,  C22C5/06 ,  C23C14/32 ,  G11B7/266 ,  G11B11/10582

Abstract: 本发明的真空成膜装置(100)具备内部能够减压的真空槽(20)、在真空槽(20)内支持基板(11)的基板托架(12)、对基板托架(12)施加偏压的偏置电源(V1)、在真空槽内，配置在银中添加铋的反射膜用的材料的材料支架(15)、以及从材料支架(15)向基板放出材料，同时在材料放出时使所述材料离子化的材料放出手段，基于偏压使离子化的材料的动能增加，以在基板上堆积材料构成的反射膜，反射膜的反射率基于偏压以及铋的添加量进行调整。