公开(公告)号：CN104203877B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201380018672.9

申请日：2013-04-03

Applicant: 拉尔夫·施皮茨尔

Inventor： 拉尔夫·施皮茨尔

IPC: C07C2/76 ,  H01J37/32 ,  H05B6/80 ,  C07C11/24

CPC classification number: C07C2/76 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/1206 ,  H01J37/32 ,  H01J2237/339 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  C07C11/24

Abstract: 使用等离子体技术制备乙炔的方法和装置，其中，将含有至少一种烃的气体进料到等离子体源的非热等离子体中。

公开(公告)号：CN104203877A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380018672.9

申请日：2013-04-03

Applicant: 拉尔夫·施皮茨尔

Inventor： 拉尔夫·施皮茨尔

IPC: C07C2/76 ,  H01J37/32 ,  H05B6/80 ,  C07C11/24

CPC classification number: C07C2/76 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/1206 ,  H01J37/32 ,  H01J2237/339 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  C07C11/24

Abstract: 使用等离子体技术制备乙炔的方法和装置，其中，将含有至少一种烃的气体进料到等离子体源的非热等离子体中。

公开(公告)号：CN111566777A

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201880084760.1

申请日：2018-12-21

Applicant: 拉尔夫·施皮茨尔

Inventor： 拉尔夫·施皮茨尔

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明涉及一种微波等离子体装置，所述微波等离子体装置包括处理空间和数量为两个以上的微波半导体。微波等离子体装置的特征在于，微波半导体以这样的方式附接到所述处理空间，使得微波半导体中的所述微波仅在所述处理空间中时干扰其他微波半导体的所述微波。本发明还涉及一种对应的方法。