一种基于新型腔室结构的半导体晶圆退火炉

    公开(公告)号:CN118486609B

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202410671412.1

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本申请公开了一种基于新型腔室结构的半导体晶圆退火炉,包括退火舱、舱门以及安装于退火舱顶部的安装舱,退火舱内具有退火腔,安装舱内具有安装腔,退火腔内固定安装有晶圆载台和加热灯盘,退火腔内还安装有活动单元,安装腔内安装有驱动单元。本申请的半导体晶圆退火炉,通过设置热辐射反射单元,可以对加热灯盘的圆周向外辐射的热量进行反射,从而可以使得加热灯盘的圆周方向温度不易向外辐射,实现对晶圆边缘更好的加热补偿,避免由于晶圆边缘相对于晶圆中央散热更快导致的升温不均,热辐反射单元的高度可以调节,因此对于加热灯盘的边缘热辐射的反射效果可以调节,第一、二反射单元自身具有限位配合结构,避免不正确的温度补偿。

    一种基于新型腔室结构的半导体晶圆退火炉

    公开(公告)号:CN118486609A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202410671412.1

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本申请公开了一种基于新型腔室结构的半导体晶圆退火炉,包括退火舱、舱门以及安装于退火舱顶部的安装舱,退火舱内具有退火腔,安装舱内具有安装腔,退火腔内固定安装有晶圆载台和加热灯盘,退火腔内还安装有活动单元,安装腔内安装有驱动单元。本申请的半导体晶圆退火炉,通过设置热辐射反射单元,可以对加热灯盘的圆周向外辐射的热量进行反射,从而可以使得加热灯盘的圆周方向温度不易向外辐射,实现对晶圆边缘更好的加热补偿,避免由于晶圆边缘相对于晶圆中央散热更快导致的升温不均,热辐反射单元的高度可以调节,因此对于加热灯盘的边缘热辐射的反射效果可以调节,第一、二反射单元自身具有限位配合结构,避免不正确的温度补偿。

    等离子去胶电极结构
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219435217U

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202223572268.1

    申请日:2022-12-31

    Abstract: 等离子去胶电极结构,属于半导体制造技术领域。本实用新型改变了电极的结构,采用两个筒状电极,一个在石英腔外面,另一个在石英腔内部,形成同轴电极,内部的电极接地,外部的电极接电源,电磁场分布更加均匀,去胶效率更高、均匀性更好。

    一种晶圆工艺腔室氮气帘结构

    公开(公告)号:CN219163340U

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202223571856.3

    申请日:2022-12-31

    Abstract: 一种晶圆工艺腔室氮气帘结构,属于半导体制造技术领域。包括:上腔道,位于工艺腔室门洞上侧的壁厚内,并通过上狭缝与工艺腔室连通;下腔道,位于工艺腔室门洞下侧的壁厚内,并通过下狭缝与工艺腔室连通;上、下狭缝位置对应;气路管道,一端连接氮气源,另一端分别连通上、下腔道。本实用新型通过给工艺腔室门增加氮气帘,可以隔绝或减少大气进入工艺腔室,提高了工艺效率,提升了产品良率。

    快速退火炉腔室门结构
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218895660U

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202223190082.X

    申请日:2022-11-30

    Abstract: 快速退火炉腔室门结构,属于半导体处理设备技术领域,包括腔室门、盖合于腔室门处的腔室封板以及真空通道;腔室门与腔室封板之间设有内密封圈、外密封圈,外密封圈环绕设于内密封圈外,使腔室门、腔室封板、两密封圈之间形成密封环路;腔室门壁厚处设有两道适配内、外密封圈的环形槽,真空通道一端端口位于两环形槽之间以连通密封环路,另一端则连接抽真空设备。本实用新型采用双密封圈结构增强腔室门结构的密封性,利用真空设备、真空度传感器实时监测腔室门处的密封情况,减少了因腔室封板密封不佳导致的废品损失,提高了工艺良率,减少了产品报废。本实用新型还利用自动启闭机构实现腔室门结构的自动打开和关闭,机械化自动化程度高。

    快速退火炉卤素灯座
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219717460U

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202320097499.7

    申请日:2023-02-01

    Abstract: 快速退火炉卤素灯座,属于灯座技术领域。包括:陶瓷座体,包括主构件、副构件,所述副构件插接安装于主构件;灯管导电端子,具有导电凸块;所述灯管导电端子固定于主构件、副构件之间;灯座导电端子,固定于主构件、灯管导电端子之间,并与灯管导电端子导通;弹簧压板,弹簧压板的一端与灯管导电端子、灯座导电端子、主构件固接,另一端抵住副构件,将副构件与主构件压紧。本实用新型采用弹性压装,保证触点(灯管导电端子和灯座导电端子之间、灯管和灯管导电端子之间)紧密连接,提高了更换效率。

    一种晶圆热处理用冷却盘

    公开(公告)号:CN219226234U

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202223571957.0

    申请日:2022-12-31

    Abstract: 一种晶圆热处理用冷却盘,属于半导体制造技术领域。其特征是,包括上盖板、下盖板、密封圈、进水口以及出水口,所述上盖板盖合固定于下盖板,并在上、下盖板之间形成过流通道;所述密封圈位于上、下盖板之间,所述进水口、出水口分别连通过流通道。所述下盖板的上表面,在侧边设有一圈密封槽,用于安装密封圈。本实用新型采用密封圈密封,即拆即装,提高了工作效率;本实用新型采用回字形过流通道,增大了冷却水与冷却盘的接触面积,提高了冷却效率。

    一种半导体厚片反应装置

    公开(公告)号:CN215731612U

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202122099003.3

    申请日:2021-09-02

    Abstract: 一种半导体厚片反应装置,属于半导体技术领域,包括载有晶圆的晶舟、混酸槽、拨动机构以及驱动机构,所述拨动机构位于晶舟下方,所述驱动机构使拨动机构运转,以拨动晶舟插槽内的晶圆。本实用通过实现晶圆在晶舟内滚动,使晶圆与混酸充分接触,解决了晶圆与晶舟接触区域反应不均匀的问题,提高了清洗效率,节约了混酸。

    齿形导片装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219553597U

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202320491554.0

    申请日:2023-03-15

    Inventor: 杨志勇 王恒

    Abstract: 齿形导片装置,属于半导体技术领域。包括:立架;导片腔结构,包括两块相对布置的挡板、以及连接两挡板的横杆,两块挡板的侧端分别与立架上部固接;两块挡板的内侧壁分别对称布置有若干匹配晶圆的片槽,形成导片腔;升降机构,安装于立架下部,包括驱动结构、以及与驱动结构相连的升降臂;齿形导片座,安装于升降臂顶部;所述齿形导片座的顶部设有若干匹配晶圆的片槽,齿形导片座的片槽、导片腔的片槽上下一一对应。本实用新型简化结构,可有效避免晶圆在导片过程因错位而导致的破损。

    碳化硅加热盒
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219393347U

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202320491552.1

    申请日:2023-03-15

    Inventor: 杨志勇 王恒

    Abstract: 碳化硅加热盒,属于半导体技术领域。加热盒的盒体采用碳化硅材料制成,包括上盖、下盖;上盖的凹陷区域A、下盖的凹陷区域B形成透明晶圆片的容腔。本实用新型中,加热盒材质为碳化硅,有优异的热传导物理性能,可以快速把热量传送到半透明碳化硅晶圆片上。

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