一种弱电流测量系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113125846A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN202110413433.X

    申请日:2021-04-16

    Abstract: 本发明公开了一种弱电流测量系统,包括:主控电路、弱电流测量电路、模数转换电路和显示终端;弱电流测量电路的控制信号输入端电连接主控电路的信号输出端,用于根据主控电路的输出信号切换量程,并在切换量程后,将接收的弱电流进行放大并转换为电压信号;模数转换电路的输入端电连接弱电流测量电路的输出端,模数转换电路的输出端通过主控电路电连接显示终端,用于将电压信号转换为数字信号,并通过显示终端显示电压信号的波形图,以便利用波形图得出弱电流的测量结果;本发明能够调整弱电流的测量量程,从而满足不同范围的测量需求,并可直接输出弱电流电压信号的波形以及波形信息,以便直接得出测量结果。

    薄膜厚度分布及其均匀性的射线测量方法

    公开(公告)号:CN105403581B

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201510896942.7

    申请日:2015-12-08

    Applicant: 四川大学

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜厚度分布及其均匀性的射线测量方法。该方法采用α粒子束与自动逐次扫描测量相结合的方法,通过计算机控制系统控制待测薄膜在二维平面内X方向和Y方向的扫描测量移动,获得α粒子束依次穿过待测薄膜上每一小块薄膜面元处的能量损失值;进一步由能量损失值计算得到各个薄膜面元的质量厚度值,再通过自编计算机软件得到整块待测薄膜质量厚度分布及其均匀性的图形表征。本发明提出的新方法能有效解决目前现有方法不能分析薄膜质量厚度分布及其均匀性的不足;为分析从数十纳米到数十微米厚度薄膜的质量厚度分布及均匀性提供了新的方法和技术;将在薄膜研制单位和薄膜使用单位得到广泛应用。

    薄膜厚度分布及其均匀性的射线测量方法

    公开(公告)号:CN105403581A

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201510896942.7

    申请日:2015-12-08

    Applicant: 四川大学

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜厚度分布及其均匀性的射线测量方法。该方法采用α粒子束与自动逐次扫描测量相结合的方法,通过计算机控制系统控制待测薄膜在二维平面内X方向和Y方向的扫描测量移动,获得α粒子束依次穿过待测薄膜上每一小块薄膜面元处的能量损失值;进一步由能量损失值计算得到各个薄膜面元的质量厚度值,再通过自编计算机软件得到整块待测薄膜质量厚度分布及其均匀性的图形表征。本发明提出的新方法能有效解决目前现有方法不能分析薄膜质量厚度分布及其均匀性的不足;为分析从数十纳米到数十微米厚度薄膜的质量厚度分布及均匀性提供了新的方法和技术;将在薄膜研制单位和薄膜使用单位得到广泛应用。

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