公开(公告)号：CN104487895A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201280073543.5

申请日：2012-05-28

Applicant: 惠普工业印刷有限公司

Inventor： A.戴维森

IPC: G03F3/06

CPC classification number: H04N1/54 ,  H04N1/6002 ,  H04N1/6052 ,  H04N1/6066 ,  H04N1/6094 ,  H04N1/6097

Abstract: 根据一个示例，提供一种处理待打印图像的方法。该方法包括获得待打印图像的图像数据；从所述图像数据确定定义的专色；从所述图像数据生成对应于所述图像中具有所述定义的专色的区域的图像掩蔽；以及生成打印机控制数据以控制所述打印机在具有所述定义的专色的基板上打印所述图像的非掩蔽区域。

公开(公告)号：CN104290450B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201410343098.0

申请日：2014-07-18

Applicant: 惠普工业印刷有限公司

Inventor： A.维斯 ,  A.戴维森

IPC: B41J2/01

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05B3/00 ,  B05B7/00 ,  B05B12/02 ,  B05B12/04 ,  B05B12/12 ,  B05D1/36 ,  B41F3/00 ,  B41J2/01 ,  B41J2/07 ,  B41J2/205 ,  B41J2/2114 ,  B41J2/2132 ,  B41J2/2135 ,  B41J2/2146 ,  B41J2/515 ,  B41J3/543 ,  B41J11/0015 ,  B41J11/008 ,  B41J29/393

Abstract: 本发明涉及将液体施加到基底。提供用于通过使用液体施加器的第一和第二阵列将液体施加到基底的系统。该系统包括：选择性可控制的液体施加器的第一阵列，其当基底在第一轴上相对于第一阵列移动时将液体施加到基底；液体施加器的第二阵列，其可控制成当基底在第一轴上相对于第二阵列移动时将液体施加到基底，第二阵列还在垂直于第一轴的第二轴上相对于基底可移动；控制器，其确定施加到基底的液体的图案，控制液体施加器的第一阵列将液体施加到基底以形成图案的第一部分，控制液体施加器的第二阵列将液体施加到基底以形成图案的第二部分。

公开(公告)号：CN104487895B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201280073543.5

申请日：2012-05-28

Applicant: 惠普工业印刷有限公司

Inventor： A.戴维森

IPC: G03F3/06

CPC classification number: H04N1/54 ,  H04N1/6002 ,  H04N1/6052 ,  H04N1/6066 ,  H04N1/6094 ,  H04N1/6097

Abstract: 根据一个示例，提供一种处理待打印图像的方法。该方法包括获得待打印图像的图像数据；从所述图像数据确定定义的专色；从所述图像数据生成对应于所述图像中具有所述定义的专色的区域的图像掩蔽；以及生成打印机控制数据以控制所述打印机在具有所述定义的专色的基板上打印所述图像的非掩蔽区域。

公开(公告)号：CN104290450A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410343098.0

申请日：2014-07-18

Applicant: 惠普工业印刷有限公司

Inventor： A.维斯 ,  A.戴维森

IPC: B41J2/01

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05B3/00 ,  B05B7/00 ,  B05B12/02 ,  B05B12/04 ,  B05B12/12 ,  B05D1/36 ,  B41F3/00 ,  B41J2/01 ,  B41J2/07 ,  B41J2/205 ,  B41J2/2114 ,  B41J2/2132 ,  B41J2/2135 ,  B41J2/2146 ,  B41J2/515 ,  B41J3/543 ,  B41J11/0015 ,  B41J11/008 ,  B41J29/393

Abstract: 本发明涉及将液体施加到基底。提供用于通过使用液体施加器的第一和第二阵列将液体施加到基底的系统。该系统包括：选择性可控制的液体施加器的第一阵列，其当基底在第一轴上相对于第一阵列移动时将液体施加到基底；液体施加器的第二阵列，其可控制成当基底在第一轴上相对于第二阵列移动时将液体施加到基底，第二阵列还在垂直于第一轴的第二轴上相对于基底可移动；控制器，其确定施加到基底的液体的图案，控制液体施加器的第一阵列将液体施加到基底以形成图案的第一部分，控制液体施加器的第二阵列将液体施加到基底以形成图案的第二部分。