公开(公告)号：CN1934498A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200580008836.5

申请日：2005-02-10

Applicant: 微量化学公司 ,  日本化药株式会社

Inventor： W·韦伯 ,  森哲 ,  本田那央 ,  D·约翰逊 ,  M·多坎托

IPC: G03F7/038

Abstract: 一种永久的光致抗蚀剂组合物，其包括：(A)根据式I的一种或更多种双酚A－酚醛环氧树脂；其中：在式I中的每一基团R独立地选自缩水甘油基或氢，和在式I中的k是范围为0－约30的实数；(B)选自式BIIa和BIIb表示的基团中的一种或更多种环氧树脂；其中在式BIIa中的每一R1、R2和R3独立地选自氢或具有1－4个碳原子的烷基，和在BIIa中的数值p是范围为1－30的实数；在BIIb中的数值n和m独立地为范围是1－30的实数，以及在BIIb中的每一R4和R5独立地选自氢、具有1－4个碳原子的烷基或三氟甲基；(C)一种或更多种阳离子光引发剂(也称为光酸生成剂或PAG)；和(D)一种或更多种溶剂。

公开(公告)号：CN1914561A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200580003633.7

申请日：2005-01-05

Applicant: 微量化学公司 ,  日本化药株式会社

Inventor： W·韦伯 ,  森哲 ,  本田那央

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。

公开(公告)号：CN1914561B

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN200580003633.7

申请日：2005-01-05

Applicant: 微量化学公司 ,  日本化药株式会社

Inventor： W·韦伯 ,  森哲 ,  本田那央

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。