公开(公告)号：CN1105934C

公开(公告)日：2003-04-16

申请号：CN98805017.X

申请日：1998-05-11

Applicant: 弗托库尔公司

Inventor： 哈拉尔德·B·斯蒂恩

IPC: G02B27/09 ,  A61N5/06

CPC classification number: A61N5/062 ,  A61N2005/0632 ,  A61N2005/0644

Abstract: 一种照射局部限定区域的装置，在不同大小的精确限定的光域(7)上可获得均匀强烈的照射，由卤素灯(1)或类似的非相干光源发出的光由椭圆面镜(2)射向透明短柱(4)的一端面，从而其另一端(6)可被均匀照射，并由透镜(7)在被辐射的区域(9)上成像。

公开(公告)号：CN1256008A

公开(公告)日：2000-06-07

申请号：CN98805017.X

申请日：1998-05-11

Applicant: 弗托库尔公司

Inventor： 哈拉尔德·B·斯蒂恩

IPC: H01J3/10 ,  A61N5/06

CPC classification number: A61N5/062 ,  A61N2005/0632 ,  A61N2005/0644

Abstract: 一种照射局部限定区域的装置,在不同大小的精确限定的光域(7)上可获得均匀强烈的照射,由卤素灯(1)或类似的非相干光源发出的光由椭圆面镜(2)射向透明短柱(4)的一端面,从而其另一端(6)可被均匀照射,并由透镜(7)在被辐射的区域(9)上成像。