-
公开(公告)号：CN113677952A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027552.5
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
-
公开(公告)号：CN112513688B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201980047037.0
申请日：2019-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 公开一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括在光栅层中形成凹部。在所述光栅层中形成多个通道，以在所述光栅层中限定斜向光栅结构。所述凹部和斜向光栅结构是使用选择性蚀刻工艺形成的。
-
公开(公告)号：CN113196453A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201980082070.7
申请日：2019-12-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
IPC: H01L21/265 , H01L21/67 , H01L23/538
Abstract: 本公开内容的多个实施方式涉及一种用于在基板上形成装置的系统和方法。例如，一种用于在基板上形成装置的方法可以包括从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第一表面上形成一个或多个装置，以及从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第二表面上形成一个或多个装置。在这些实施方式中，第一表面和第二表面在基板的相对侧上。因此，离子束可以在基板的两侧上形成装置。
-
公开(公告)号：CN113168020A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980081016.0
申请日：2019-12-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
Abstract: 本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。
-
公开(公告)号：CN113169099B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN201980081072.4
申请日：2019-11-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/306 , H01L21/425 , H01L21/027 , H01L27/15 , H01L25/075
Abstract: 本公开内容的多个实施方式涉及通过提供在整个基板上的局部加热来控制蚀刻深度的方法。用于控制整个基板上的温度的方法可包括个别地控制设置在基板支承组件的介电主体中的多个加热小单元。多个加热小单元在基板的第一表面上提供温度分布，基板设置在介电主体的支承表面上。温度分布对应于待暴露于离子束的基板的第二表面上至少一个光栅的多个部分。此外，可通过个别地控制发光二极管(LED)阵列的LED来控制温度。将基板暴露于离子束，以在至少一个光栅上形成多个鳍片。至少一个光栅具有对应于温度分布的深度分布。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN111201589B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201980005019.6
申请日：2019-04-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 约瑟夫·C·奥尔森
IPC: H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01L21/67
Abstract: 本文描述的具体实施方式，涉及在基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法，以及使用角度蚀刻系统在循序基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法。方法包括将保持在平台上的基板的部分定位在离子束的路径中。基板上设置有光栅材料。离子束经配置以相对于基板的表面法线的离子束角θ接触光栅材料，并在光栅材料中形成光栅。基板围绕平台的轴线旋转，以在离子束与光栅的表面法线之间产生旋转角φ。光栅相对于基板的表面法线具有倾斜角θ'。由方程式φ＝cos‑1(tan(θ')/tan(θ))选出旋转角φ。
-
公开(公告)号：CN113167948A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980081505.6
申请日：2019-12-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统及/或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将固位在工作台上的基板的部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线用离子束角Q接触该光栅材料及在该光栅材料中形成光栅。
-
公开(公告)号：CN113039627A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980073367.7
申请日：2019-10-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
IPC: H01L21/265 , H01L21/768 , H01L21/3065 , H01L21/033 , H01L21/311
Abstract: 本文论述的系统和方法能够用于在单一基板上遍及光栅材料上形成处于各种倾斜角的光栅，这是通过下述方式实现的：确定离子束角度，以及将离子束的角度在多个离子束角度之间改变，从而形成具有变化的角度和截面几何形状的多个光栅。所述基板能够绕着中心轴旋转，并且能够调控一个或多个工艺参数(诸如离子束的占空比)，从而形成具深度梯度的光栅。
-
公开(公告)号：CN112513688A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980047037.0
申请日：2019-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 公开一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括在光栅层中形成凹部。在所述光栅层中形成多个通道，以在所述光栅层中限定斜向光栅结构。所述凹部和斜向光栅结构是使用选择性蚀刻工艺形成的。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
24
records
(took 0.025 seconds)
