-
公开(公告)号：CN1756808A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200480006073.6
申请日：2004-02-18
Applicant: 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 , 日本精涂层株式会社 , JSR株式会社
IPC: C09D4/06 , C08F230/08 , G02B1/11 , C08F290/06 , C09C3/12 , B32B7/10 , C08F292/00 , C08K3/00 , C08K9/04
CPC classification number: B32B27/08 , C08F283/00 , C08F283/12 , C08F290/06 , C08F292/00 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , Y10T428/31942
Abstract: 本发明的目的是提供一种可固化组合物、该可固化组合物的固化产品以及具有低反射率和优异耐化学性的层压制品，该可固化组合物具有优异的可用性，并且能够形成涂层(薄膜)，该涂层具有高硬度、高折射率、优异的抗划伤性和对基材及低折射率层的粘合性，并且即使在固化产品处于高pH值环境中或者在无氧条件下在各种基材表面上固化组合物的情况下，也具有优异的抗划伤性。技术方案是一种可固化组合物，包含(A)通过将至少一种选自硅、铝、锆、钛、锌、锗、铟、锡、锑或铈的元素的氧化物粒子与具有可聚合不饱和基团的有机化合物结合而得到的粒子，(B)不具有可聚合不饱和基团的蜜胺化合物，和(C)具有可聚合不饱和基团和羟基值为110mgKOH/g或更高的化合物。
-
公开(公告)号：CN103348289A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280007859.4
申请日：2012-02-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , C08F290/14 , C08G77/14 , C08G77/20
CPC classification number: C08F283/122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08L83/06 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0757 , G03F7/40 , C08L83/00
Abstract: 本发明提供一种感放射线性组成物，其可形成以高水准且以良好的平衡而兼具对保护膜或层间绝缘膜的要求特性的硬化膜，且可利用无机碱显影液进行显影。本发明的感放射线性组成物含有以下的成分[A1]、成分[B]及成分[C]：[A1]使四乙氧基硅烷或其部分水解物、下述式(1)所表示的水解性硅烷化合物或其部分水解物、及下述式(2)所表示的水解性硅烷化合物或其部分水解物进行水解缩合而获得的聚硅氧烷；[B]具有2个以上的乙烯性不饱和基的化合物(其中成分[A1]除外)；[C]光自由基聚合起始剂。下述式中，R1及R3表示碳数1～6的烷基，R2表示碳数1～20的烷基等，m表示1～3的整数，n表示0～6的整数，x表示1～3的整数，y表示1～6的整数，z表示0～3的整数。
-
公开(公告)号：CN105103042A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480018204.6
申请日：2014-04-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1343 , G02F1/1368
CPC classification number: G02F1/133345 , G02F1/134363 , G02F1/136227 , G02F2001/134372 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种可简便地形成并具备可控制介电特性的绝缘膜的阵列基板、具备该阵列基板的液晶显示元件及形成该绝缘膜的感放射线性树脂组合物。在形成有能动元件8的基板4上形成绝缘膜12，并在绝缘膜12上配置公用电极14与层间绝缘膜33及梳齿形状的像素电极9，而制造阵列基板1。在形成层间绝缘膜33时，使用含有[X]碱可溶性树脂，[Y]选自由铝、锆、钛、锌、铟、锡、锑及铈所组成的群组中的至少一种金属的氧化物粒子，[Z]多官能丙烯酸酯，[V]链转移剂，[W]感放射线性聚合引发剂的感放射线性树脂组合物。使用阵列基板1来构成液晶显示元件。
-
公开(公告)号：CN102955188A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210295610.X
申请日：2012-08-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种低温硬化的高可靠性的彩色滤光片、液晶显示元件及彩色滤光片的制造方法，且使用该彩色滤光片而提供液晶显示元件。使用着色图案(6)、保护膜(8)与间隔件(9)而制造彩色滤光片(10)，所述着色图案(6)含有二酮基吡咯并吡咯类颜料、卤化锌酞菁类颜料、三芳基甲烷类染料及偶氮类染料中的任意种，所述保护膜(8)由包含硅氧烷聚合物的第1感放射线性树脂组成物而获得，间隔件(9)由包含碱溶性树脂以及下式(1)或下式(2)的化合物的至少任意者的第2感放射线性树脂组成物而获得。使用彩色滤光片(10)而构成液晶显示元件(1)。
-
公开(公告)号：CN102147570B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010614014.4
申请日：2010-12-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的是提供一种具有高的涂布性和图案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，还具有高的折射率，且具有正型的放射线敏感特性的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，由该组合物形成的图案化的固化膜及其形成方法。本发明为一种放射线敏感性组合物，其含有[A]硅氧烷聚合物、[B]金属氧化物颗粒、和[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂，上述[B]金属氧化物颗粒为选自铝、锆、钛、锌、铟、锡、锑和铈构成的群组中的至少一种金属的氧化物颗粒。该放射线敏感性组合物优选还含有分散剂。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102156387A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010610519.3
申请日：2010-12-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。
-
公开(公告)号：CN102156387B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201010610519.3
申请日：2010-12-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。
-
公开(公告)号：CN102419515B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110282258.1
申请日：2011-09-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％、[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷、[C]自由基聚合引发剂、及[D]溶剂。
-
公开(公告)号：CN102419515A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110282258.1
申请日：2011-09-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％、[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷、[C]自由基聚合引发剂、及[D]溶剂。
-
公开(公告)号：CN103348289B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201280007859.4
申请日：2012-02-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , C08F290/14 , C08G77/14 , C08G77/20
CPC classification number: C08F283/122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08L83/06 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0757 , G03F7/40 , C08L83/00
Abstract: 本发明提供一种感放射线性组成物，其可形成以高水准且以良好的平衡而兼具对保护膜或层间绝缘膜的要求特性的硬化膜，且可利用无机碱显影液进行显影。本发明的感放射线性组成物含有以下的成分[A1]、成分[B]及成分[C]：[A1]使四乙氧基硅烷或其部分水解物、及特定结构的水解性硅烷化合物或其部分水解物进行水解缩合而获得的聚硅氧烷；[B]具有2个以上的乙烯性不饱和基的化合物(其中成分[A1]除外)；[C]光自由基聚合起始剂。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.058 seconds)
