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公开(公告)号：CN1210100A
公开(公告)日：1999-03-10
申请号：CN98120318.3
申请日：1998-08-22
Applicant: 帝人化成株式会社
IPC: C07B39/00 , C07C45/63 , C07C315/04
CPC classification number: C07C315/04 , C07C41/22 , C07C43/225 , C09K21/08 , C07C317/22
Abstract: 一种溴化合物的制备方法,该方法包括将下述通式(1)表示的具有脂族不饱和键的化合物与溴反应R1-O-Ar1-Y-Ar2-O-R2(1)来制备下述通式(2)表示的溴化合物:R3-O-Ar1-Y-Ar2-O-R4(2)其中,Ar1,Ar2和Y与上述通式(1)中的定义相同,R3和R4是用溴原子分别饱和上述通式(1)中的R1和R2的不饱和基团后得到的基团,其中,反应是在反应中呈惰性的溶剂存在条件下进行,通过溶剂或溴的蒸发热从反应体系中除去大量的反应热。根据本发明,能在工业上有利地得到用作阻燃剂的高纯溴化合物。
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公开(公告)号：CN1110464C
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN98120318.3
申请日：1998-08-22
Applicant: 帝人化成株式会社
IPC: C07B39/00 , C07C45/63 , C07C315/04
CPC classification number: C07C315/04 , C07C41/22 , C07C43/225 , C09K21/08 , C07C317/22
Abstract: 一种溴化合物的制备方法，该方法包括将下述通式(1)表示的具有脂族不饱和键的化合物与溴反应R1-O-Ar1-Y-Ar2-O-R2，(1)来制备下述通式(2)表示的溴化合物：R3-O-Ar1-Y-Ar2-O-R4(2)其中，Ar1，Ar2和Y与上述通式(1)中的定义相同，R3和R4是用溴原子分别饱和上述通式(1)中的R1和R2的不饱和基团后得到的基团，其中，反应是在反应中呈惰性的溶剂存在条件下进行，通过溶剂或溴的蒸发热从反应体系中除去大量的反应热。根据本发明，能在工业上有利地得到用作阻燃剂的高纯溴化合物。
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公开(公告)号：CN101300286A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680040960.4
申请日：2006-11-08
Applicant: 帝人化成株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08G64/10 , G02B1/041 , G02B27/0037 , G02B27/4211 , G02B27/4272 , C08L69/00
Abstract: 本发明涉及一种光学元件以及使用了该光学元件的色差补正透镜，其特征在于，所述光学元件由具有从以2，2－双(4－羟基苯基)－1，1，1，3，3，3－六氟丙烷(双酚AF)为代表的特定的二羟基化合物衍生的结构单元，且折射率nD和阿贝数vD的关系满足下式(I)的聚合物构成，并用于色差补正：nD+0.0076×vD≤1.78 (I)。
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公开(公告)号：CN101300286B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200680040960.4
申请日：2006-11-08
Applicant: 帝人化成株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08G64/10 , G02B1/041 , G02B27/0037 , G02B27/4211 , G02B27/4272 , C08L69/00
Abstract: 本发明涉及一种光学元件以及使用了该光学元件的色差补正透镜，其特征在于，所述光学元件由具有从以2，2-双(4-羟基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷(双酚AF)为代表的特定的二羟基化合物衍生的结构单元，且折射率nD和阿贝数νD的关系满足下式(I)的聚合物构成，并用于色差补正：nD+0.0076×νD≤1.78 (I)。
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