公开(公告)号：CN102668204B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201080051529.6

申请日：2010-11-12

Applicant: 巴斯夫欧洲公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 奥利维尔·格罗瓦尔德 ,  约尔格·贝拉克 ,  约亨·鲍尔迈斯特 ,  托马斯·贾斯特斯·施密特 ,  崔成宇 ,  朴贞玉 ,  全宇崇 ,  李政锡

IPC: H01M8/00 ,  H01M8/10 ,  H01M8/02

CPC classification number: H01M8/0291 ,  H01M8/0289 ,  H01M2008/1095 ,  Y02E60/50 ,  Y02P70/56

Abstract: 本发明涉及生产机械稳定的聚唑聚合物的方法，其包括以下步骤：a)提供包含以下物质的膜：i.)除了可通过使芳族和/或杂芳族二氨基羧酸反应获得的聚唑之外的在重复单元中具有至少一个氨基基团的聚唑，ii.)至少一种强酸和iii.)至少一种稳定剂，在所述膜中稳定剂的总含量为0.01至30重量%，b)直接在所述膜中或在所述膜的后续加工步骤中进行稳定化反应，c)如果合适，则用强酸额外掺杂根据步骤b)获得的膜或通过除去存在的水进一步浓缩存在的强酸，其中所述稳定剂包含至少一种基于嗪的化合物。可如此获得的聚唑聚合物膜尤其以高电导率和非常好的机械稳定性为特征。因此，它们尤其适合于在燃料电池中应用。

公开(公告)号：CN102668204A

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：CN201080051529.6

申请日：2010-11-12

Applicant: 巴斯夫欧洲公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 奥利维尔·格罗瓦尔德 ,  约尔格·贝拉克 ,  约亨·鲍尔迈斯特 ,  托马斯·贾斯特斯·施密特 ,  崔成宇 ,  朴贞玉 ,  全宇崇 ,  李政锡

IPC: H01M8/00 ,  H01M8/10 ,  H01M8/02

CPC classification number: H01M8/0291 ,  H01M8/0289 ,  H01M2008/1095 ,  Y02E60/50 ,  Y02P70/56

Abstract: 本发明涉及生产机械稳定的聚唑聚合物的方法，其包括以下步骤：a)提供包含以下物质的膜：i.)除了可通过使芳族和/或杂芳族二氨基羧酸反应获得的聚唑之外的在重复单元中具有至少一个氨基基团的聚唑，ii.)至少一种强酸和iii.)至少一种稳定剂，在所述膜中稳定剂的总含量为0.01至30重量%，b)直接在所述膜中或在所述膜的后续加工步骤中进行稳定化反应，c)如果合适，则用强酸额外掺杂根据步骤b)获得的膜或通过除去存在的水进一步浓缩存在的强酸，其中所述稳定剂包含至少一种基于嗪的化合物。可如此获得的聚唑聚合物膜尤其以高电导率和非常好的机械稳定性为特征。因此，它们尤其适合于在燃料电池中应用。