公开(公告)号：CN1290402A

公开(公告)日：2001-04-04

申请号：CN99802813.4

申请日：1999-12-09

Applicant: 岸本产业株式会社

Inventor： 矢田隆司 ,  寺山重树 ,  肥沼丰 ,  大串建

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/31133 ,  G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种无毒、没有危险的光刻胶残渣去除剂,能使光刻胶残渣的去除进行而没有金属腐蚀或其它问题并且具有安全性。所述去除剂是一种含有磷酸铵和/或缩聚磷酸铵的水溶液,pH值在1—10范围内。

公开(公告)号：CN1139970C

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN99802813.4

申请日：1999-12-09

Applicant: 岸本产业株式会社

Inventor： 矢田隆司 ,  寺山重树 ,  肥沼丰 ,  大串建

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/31133 ,  G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种无毒、没有危险的光刻胶残渣去除剂，能进行光刻胶残渣的去除而没有金属腐蚀或其它问题并且具有安全性。所述去除剂是一种含有磷酸铵和/或缩聚磷酸铵的水溶液，pH值在1-10范围内。