一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法

    公开(公告)号:CN106371286A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610902369.0

    申请日:2016-10-17

    CPC classification number: B82Y40/00 G03F7/0002

    Abstract: 本发明公开了一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法,其腔式结构的纳米压印模板为一体式结构,包括焊接在一起的上模板和下模板两部分;其中,上模板均匀设置有若干数量通透阶梯孔,下模板上均匀设置有若干数量沟槽,沟槽的两端分别与外部高压水泵和真空泵通过管路连接。本发明通过在模板内部增设一个密闭的空腔,使得其在压印过程中,对模板腔室内抽真空并形成负压;在脱模过程中,利用水压,使模板与压印胶界面产生裂纹并扩展至整个结合界面,进而完成脱模。本发明相对于现有技术,具有操作简便、压印所需压力小、成型质量好等有益效果,不仅适于常规压印结构的成型,而且尤其适于高深宽比压印结构的成型。

    一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106291776A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610808206.6

    申请日:2016-09-07

    CPC classification number: G02B1/005

    Abstract: 本发明公开了一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法,其按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出母模板,以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板,并将软模板作为二次模板,通过三步图案转移的方式,将母模板上的图案“高保真”地“复制”到高弹性凝胶基体层中,以固定光子晶体的晶格位置;然后,将粘弹性聚合物填充在晶格中得到具有光子晶体结构的单层高弹性凝胶-粘弹性聚合物复合层,再通过逐层压印的方法制得具有力响应性的光子晶体材料。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106226847B

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201610808209.X

    申请日:2016-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法,采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术,按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为填充模板,以力学性能优异的高弹性凝胶作为基体材料、粘弹性聚合物作为填充材料,通过填充模板的方式,将预先设计的光子晶体图案“高保真”地“转移”到粘弹性聚合物中,再经过旋涂、堆叠等步骤制得纳米量级的、结构可控的具有力响应性的光子晶体材料。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法

    公开(公告)号:CN106371286B

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201610902369.0

    申请日:2016-10-17

    Abstract: 本发明公开了一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法,其腔式结构的纳米压印模板为一体式结构,包括焊接在一起的上模板和下模板两部分;其中,上模板均匀设置有若干数量通透阶梯孔,下模板上均匀设置有若干数量沟槽,沟槽的两端分别与外部高压水泵和真空泵通过管路连接。本发明通过在模板内部增设一个密闭的空腔,使得其在压印过程中,对模板腔室内抽真空并形成负压;在脱模过程中,利用水压,使模板与压印胶界面产生裂纹并扩展至整个结合界面,进而完成脱模。本发明相对于现有技术,具有操作简便、压印所需压力小、成型质量好等有益效果,不仅适于常规压印结构的成型,而且尤其适于高深宽比压印结构的成型。

    一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106226846B

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201610808124.1

    申请日:2016-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法,其采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术,按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为母模板,以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板,并将其作为二次模板;以高弹性凝胶作为填充材料、粘弹性聚合物作为成型材料,通过反转压印的方式,将母模板上的图案“高保真”地“复制”到粘弹性聚合物中;进而制得纳米量级的、结构可控的具有力响应性的光子晶体。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106226847A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610808209.X

    申请日:2016-09-07

    CPC classification number: G02B1/005

    Abstract: 本发明公开了一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法,采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术,按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为填充模板,以力学性能优异的高弹性凝胶作为基体材料、粘弹性聚合物作为填充材料,通过填充模板的方式,将预先设计的光子晶体图案“高保真”地“转移”到粘弹性聚合物中,再经过旋涂、堆叠等步骤制得纳米量级的、结构可控的具有力响应性的光子晶体材料。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种具有双层纳米结构的金属/聚合物的制备方法

    公开(公告)号:CN106200261B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN201610643716.2

    申请日:2016-08-08

    Abstract: 本发明公开了一种具有双层纳米结构的金属/聚合物复合材料的制备方法,其包括以下步骤:采用自组装的方法,在模板表面上,修饰一层低表面能的防粘材料,作为防粘层;然后,在防粘层上沉积上一层纳米金属薄膜层;再在金属薄膜层上旋涂一层紫外光刻胶;并用作衬底的石英板片覆盖在紫外光刻胶层的表面上,采用反向压印的方式进行紫外压印,使紫外光刻胶填充到纳米金属薄膜层中;待紫外光刻胶层完全固化后,脱模即得。本发明工艺流程短、简单易控,模板可以重复使用,制备成本低;所制得的具有双层纳米结构的金属/聚合物复合材料,密实程度高、强度指标好,纳米金属薄膜层内部空隙少,甚至是不存在任何空隙。

    一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106291776B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201610808206.6

    申请日:2016-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法,其按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出母模板,以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板,并将软模板作为二次模板,通过三步图案转移的方式,将母模板上的图案“高保真”地“复制”到高弹性凝胶基体层中,以固定光子晶体的晶格位置;然后,将粘弹性聚合物填充在晶格中得到具有光子晶体结构的单层高弹性凝胶‑粘弹性聚合物复合层,再通过逐层压印的方法制得具有力响应性的光子晶体材料。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106226846A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610808124.1

    申请日:2016-09-07

    CPC classification number: G02B1/005

    Abstract: 本发明公开了一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法,其采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术,按预先设计的光子晶体结构参数,刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为母模板,以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板,并将其作为二次模板;以高弹性凝胶作为填充材料、粘弹性聚合物作为成型材料,通过反转压印的方式,将母模板上的图案“高保真”地“复制”到粘弹性聚合物中;进而制得纳米量级的、结构可控的具有力响应性的光子晶体。本发明的制备方法相对于现有技术,具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制,模板可重复使用,产品精度等级高、质量稳定可靠,成本较低等特点。

    一种具有双层纳米结构的金属/聚合物的制备方法

    公开(公告)号:CN106200261A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201610643716.2

    申请日:2016-08-08

    CPC classification number: G03F7/0002 G03F7/0035 G03F7/16

    Abstract: 本发明公开了一种具有双层纳米结构的金属/聚合物复合材料的制备方法,其包括以下步骤:采用自组装的方法,在模板表面上,修饰一层低表面能的防粘材料,作为防粘层;然后,在防粘层上沉积上一层纳米金属薄膜层;再在金属薄膜层上旋涂一层紫外光刻胶;并用作衬底的石英板片覆盖在紫外光刻胶层的表面上,采用反向压印的方式进行紫外压印,使紫外光刻胶填充到纳米金属薄膜层中;待紫外光刻胶层完全固化后,脱模即得。本发明工艺流程短、简单易控,模板可以重复使用,制备成本低;所制得的具有双层纳米结构的金属/聚合物复合材料,密实程度高、强度指标好,纳米金属薄膜层内部空隙少,甚至是不存在任何空隙。

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