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公开(公告)号:CN101631889B
公开(公告)日:2011-12-28
申请号:CN200880007921.3
申请日:2008-04-01
Applicant: 株式会社爱发科 , 小岛压力加工工业株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D7/02 , C08G18/3228 , C08G18/3234 , C08G18/324 , C08G18/3246 , C08G18/757 , C08G18/7628 , C09D175/02
Abstract: 本发明的目的在于,通过真空蒸镀聚合法在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的,其中,所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。
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公开(公告)号:CN101996767B
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN201010250002.8
申请日:2010-08-09
Applicant: 小岛压力加工工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种改良了的薄膜电容器,能够确保充分的耐压,而且能够以更高水平实现小型、大容量化。将多个电介质和至少一个金属蒸镀膜层(14a、14b)叠层,并且,使该多个电介质由一个树脂薄膜层(12)和至少一个蒸镀聚合膜(16a)构成,而且,使用将该至少一个蒸镀聚合膜层(16a)叠层形成在该树脂薄膜层(12)和该金属蒸镀膜(14a、14b)中的至少任一方上而成的基本元件(10)构成薄膜电容器。
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公开(公告)号:CN101631889A
公开(公告)日:2010-01-20
申请号:CN200880007921.3
申请日:2008-04-01
Applicant: 株式会社爱发科 , 小岛压力加工工业株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D7/02 , C08G18/3228 , C08G18/3234 , C08G18/324 , C08G18/3246 , C08G18/757 , C08G18/7628 , C09D175/02
Abstract: 本发明的目的在于,通过真空蒸镀聚合法在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的,其中,所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。
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公开(公告)号:CN101996767A
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN201010250002.8
申请日:2010-08-09
Applicant: 小岛压力加工工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种改良了的薄膜电容器,能够确保充分的耐压,而且能够以更高水平实现小型、大容量化。将多个电介质和至少一个金属蒸镀膜层(14a、14b)叠层,并且,使该多个电介质由一个树脂薄膜层(12)和至少一个蒸镀聚合膜(16a)构成,而且,使用将该至少一个蒸镀聚合膜层(16a)叠层形成在该树脂薄膜层(12)和该金属蒸镀膜(14a、14b)中的至少任一方上而成的基本元件(10)构成薄膜电容器。
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