公开(公告)号：CN1110725C

公开(公告)日：2003-06-04

申请号：CN99105081.9

申请日：1999-04-15

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 佐藤邦彦 ,  高桥健史 ,  佐佐木幸雄 ,  桑原延雄

IPC: G03G15/09

CPC classification number: G03G15/09 ,  G03G15/0896

Abstract: 一种显影潜影存储体上的潜影的显影装置包括显影辊，随着它的转动转送附着到显影区上的显影剂，显影剂包括色料和载体，限制构件装成面向显影辊，限制显影辊上显影剂层的高度，色料容器储存色料，色料供给机构将色料供到显影辊，隔离构件在它和显影辊之间形成一个空间，色料容器供给的色料随着显影辊的转动而在该空间中移动。还包括显影剂调整构件，它装在显影辊转动方向的空间的上游侧，用以调整在显影辊上形成的已通过显影区的显影剂。

公开(公告)号：CN1232193A

公开(公告)日：1999-10-20

申请号：CN99105081.9

申请日：1999-04-15

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 佐藤邦彦 ,  高桥健史 ,  佐佐木幸雄 ,  桑原延雄

IPC: G03G15/09

CPC classification number: G03G15/09 ,  G03G15/0896

Abstract: 一种显影潜影存储体上的潜影的显影装置包括显影辊,随着它的转动转送附着到显影区上的显影剂,显影剂包括色料和载体,限制构件装成面向显影辊,限制显影辊上显影剂层的高度,色料容器储存色料,色料供给机构将色料供到显影辊,隔离构件在它和显影辊之间形成一个空间,色料容器供给的色料随着显影辊的转动而在该空间中移动。还包括显影剂调整构件,它装在显影辊转动方向的空间的上游侧,用以调整在显影辊上形成的已通过显影区的显影剂。