光掩模材料、光掩模及光掩模的制造方法

    公开(公告)号:CN101526734A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200910007992.X

    申请日:2009-03-06

    Inventor: 长濑博幸

    Abstract: 本发明涉及一种光掩模材料、光掩模及光掩模的制造方法。本发明提供一种在透明基材上具有含有遮光材料、由通式(1)表示的增感色素、能够生成自由基、酸或碱的引发剂化合物和利用自由基、酸或碱的至少任意一种反应的聚合性化合物的感光性层的光掩模材料,光掩模,以及光掩模的制造方法。在该光掩模的制造方法中,包括使用在全部质量中含有1质量%以上、10质量%以下从阴离子表面活性剂及非离子表面活性剂构成的组中选择的至少一种表面活性剂且pH为8~13的显影液,对利用近紫外光或可见光进行图像形状的曝光后的光掩模材料进行显影。[通式(1)中,R1及R3彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团。X表示-N(R6R7)。R2、R4、R5、R6及R7彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团,R5可以为了形成脂肪族性或芳香族性的环而与R1、R2、R3或R4结合。Z表示与相邻的原子共同形成酸性核所需的2价的非金属原子团。]

    光掩膜版及光掩膜
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101661223A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910166659.3

    申请日:2009-08-26

    Inventor: 长濑博幸

    Abstract: 本发明提供一种光掩膜版及使用该光掩膜版制成的光掩膜,所述光掩膜版的特征在于,在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引发剂、乙烯性不饱和化合物及粘合剂聚合物的感光层和25℃下的透氧性为50ml/m 2 ·day·atm以上500ml/m 2 ·day·atm以下的阻氧层。

Patent Agency Ranking