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公开(公告)号：CN111511476A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201880082156.5
申请日：2018-12-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够提高成膜速度的成膜方法。将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向以10kHz以下的频率振动的基材提供所生成的气溶胶，将包含成膜材料的膜成膜于基材上，由此解决课题。
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公开(公告)号：CN111511476B
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN201880082156.5
申请日：2018-12-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够提高成膜速度的成膜方法。将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向以10kHz以下的频率振动的基材提供所生成的气溶胶，将包含成膜材料的膜成膜于基材上，由此解决课题。
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公开(公告)号：CN111491746B
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN201880081409.7
申请日：2018-12-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B05D1/02 , B05D3/00 , B05D3/02 , B05D3/06 , B05D3/10 , B05D3/12 , C23C14/22 , C23C24/04 , G02F1/13
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够进行高精度地图案化的成膜的成膜方法。通过将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向基材供给气溶胶，将成膜材料成膜于基材上时，基材在被成膜面上具有相对于原料液为疏液性的疏液区域及相对于原料液为亲液性的亲液区域，将疏液区域的宽度设为L，将气溶胶的直径设为D时，满足“D≥L/2”来解决课题。
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公开(公告)号：CN111491746A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201880081409.7
申请日：2018-12-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B05D1/02 , B05D3/00 , B05D3/02 , B05D3/06 , B05D3/10 , B05D3/12 , C23C14/22 , C23C24/04 , G02F1/13
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够进行高精度地图案化的成膜的成膜方法。通过将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向基材供给气溶胶，将成膜材料成膜于基材上时，基材在被成膜面上具有相对于原料液为疏液性的疏液区域及相对于原料液为亲液性的亲液区域，将疏液区域的宽度设为L，将气溶胶的直径设为D时，满足“D≥L/2”来解决课题。
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