公开(公告)号：CN101142033B

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200680008809.2

申请日：2006-03-15

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 能条和彦 ,  远藤修一 ,  佐野大辅

IPC: B05D3/06 ,  B05C9/12 ,  G02B1/11 ,  G02B1/10

CPC classification number: B05C9/14 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/067 ,  B05D3/12 ,  B05D2252/02

Abstract: 根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于离子辐射是在将涂膜表面之上1mm内的近表面层中的O2浓度调节到1000ppm或更低之后实施的，因此通过所述离子辐射的辐照，该涂膜可以得到充分固化。换言之，根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于降低了在涂膜表面上的薄近表面层中的O2浓度，因此通过所述离子辐射的辐照，可以将该涂膜充分固化。因此，可以减少在辐照离子辐射时所供给的惰性气体的量，并且可以实现装置的小型化和成本降低。

公开(公告)号：CN101142033A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200680008809.2

申请日：2006-03-15

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 能条和彦 ,  远藤修一 ,  佐野大辅

IPC: B05D3/06 ,  B05C9/12 ,  G02B1/11 ,  G02B1/10

CPC classification number: B05C9/14 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/067 ,  B05D3/12 ,  B05D2252/02

Abstract: 根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于离子辐射是在将涂膜表面之上1mm内的近表面层中的O2浓度调节到1000ppm或更低之后实施的，因此通过所述离子辐射的辐照，该涂膜可以得到充分固化。换言之，根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于降低了在涂膜表面上的薄近表面层中的O2浓度，因此通过所述离子辐射的辐照，可以将该涂膜充分固化。因此，可以减少在辐照离子辐射时所供给的惰性气体的量，并且可以实现装置的小型化和成本降低。