公开(公告)号：CN116761877A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202280011293.6

申请日：2022-01-28

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 望月彩 ,  汤川博之 ,  安田健一 ,  大场孝浩

IPC: C12M1/00

Abstract: 本发明提供一种流路装置及其制造方法，所述流路装置具有流路，该流路由设置在基材上的槽和在与厚度方向交叉的方向上孔连通的多孔膜形成，与基材接触的多孔膜的至少一部分沿着流路被液密地密封。

公开(公告)号：CN104076410A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410119606.7

申请日：2014-03-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 小堂厚司 ,  汤川博之

IPC: G02B1/10

Abstract: 本发明提供一种带涂布膜的支撑物的制造方法，可在制造带涂布膜的支撑物时，减少由涂布膜的收缩所引起的薄膜宽度方向上的卷曲。所述带涂布膜的支撑物的制造方法包括：搬送步骤，以20m／分以上的搬送速度搬送厚度为59μm以下的支撑物；涂布步骤，将涂布液涂布于被搬送的支撑物上；干燥步骤，使所涂布的涂布液的溶剂干燥；以及硬化步骤，在使支撑物的长边方向上的张力小于800N／m，且使支撑物的长边方向上的伸长率ε1与涂布膜的收缩率ε2满足ε1>ε2／4的状态下，借由照射多个灯的活性能量线的装置，对使溶剂干燥后的涂布液照射150mW／cm2以上的活性能量线，使其硬化而形成涂布膜。

公开(公告)号：CN114616317A

公开(公告)日：2022-06-10

申请号：CN202080072856.3

申请日：2020-10-22

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 奥圭介 ,  引本大地 ,  大场孝浩 ,  安田健一 ,  汤川博之

IPC: C12M3/00 ,  C12M1/12 ,  C12N5/00

Abstract: 细胞培养用基材具有开口率为30％～70％的多孔膜和填充在多孔膜的孔内的细胞外基质。带有细胞的细胞培养用基材中，在细胞培养用基材的至少一面具有细胞层。

公开(公告)号：CN104765182A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201510005148.9

申请日：2015-01-06

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 安田健一 ,  汤川博之 ,  齐木裕树

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/13

CPC classification number: G02B1/12 ,  G02F1/13363 ,  G02F2001/133633 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供满足所需的取向性且能够抑制皱褶的产生的光学膜的制造方法。光学膜的制造方法具有利用支撑辊一边加热一边支撑透明支撑体的第二面并对涂膜照射紫外线，从而使涂膜固化、形成液晶层的固膜工序，使涂膜固化时的所述透明支撑体的到达温度为80℃以上、且当使P[N/m2]为面压、T[N]为施加于透明支撑体的张力、R[m]为支撑辊的半径、L[m]为透明支撑体的宽度、G[GPa]为使涂膜固化时的透明支撑体到达温度下的透明支撑体宽度方向的弹性模量时，满足式(1)P＝T/RL及式(2)P＞69/(G－1.5)+400。