公开(公告)号：CN101131436B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200710142465.0

申请日：2007-08-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 水谷英章 ,  川西直之 ,  佐野贵之

IPC: G02B1/04 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/13363 ,  G02B5/3016 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2001/133633 ,  G02F2202/40 ,  G02F2413/02 ,  G02F2413/07 ,  G02F2413/09

Abstract: 本发明提供一种在包括偏振光紫外线照射工序的光学薄膜的制造方法中，可以以高生产率制造显示出良好的光学特性及膜强度的光学薄膜的方法。该光学薄膜的制造方法，其特征在于，其是一种以(1)～(3)的顺序包括下述工序(1)～(3)的光学薄膜的制造方法：(1)在取向膜的表面形成含有聚合性液晶化合物及二色性聚合引发剂的聚合性组合物构成的层；(2)将所述层中的聚合性液晶化合物的分子形成为第一取向状态；(3)向所述层照射偏振光紫外线，使所述聚合性液晶化合物进行聚合，并且将所述聚合性液晶化合物的分子固定于第二取向状态从而形成光学各向异性层，在所述偏振光紫外线的每单位面积的照射量(J/cm2)中，消光比为1以上8以下的偏振光紫外线所占的比例为15％以下。

公开(公告)号：CN101131436A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200710142465.0

申请日：2007-08-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 水谷英章 ,  川西直之 ,  佐野贵之

IPC: G02B1/04 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/13363 ,  G02B5/3016 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2001/133633 ,  G02F2202/40 ,  G02F2413/02 ,  G02F2413/07 ,  G02F2413/09

Abstract: 本发明提供一种在包括偏振光紫外线照射工序的光学薄膜的制造方法中，可以以高生产率制造显示出良好的光学特性及膜强度的光学薄膜的方法。该光学薄膜的制造方法，其特征在于，其是一种以(1)～(3)的顺序包括下述工序(1)～(3)的光学薄膜的制造方法：(1)在取向膜的表面形成含有聚合性液晶化合物及二色性聚合引发剂的聚合性组合物构成的层；(2)将所述层中的聚合性液晶化合物的分子形成为第一取向状态；(3)向所述层照射偏振光紫外线，使所述聚合性液晶化合物进行聚合，并且将所述聚合性液晶化合物的分子固定于第二取向状态从而形成光学各向异性层，在所述偏振光紫外线的每单位面积的照射量(J/cm2)中，消光比为1以上8以下的偏振光紫外线所占的比例为15％以下。